[发明专利]清洁装置及半导体设备

说明书

本发明公开了一种清洁装置及半导体设备，清洁装置用于对光栅尺进行清洁处理，所述清洁装置包括：喷淋装置，包括喷淋管道及喷淋物供给装置，所述喷淋物供给装置与所述喷淋管道相连接，用于向所述喷淋管道内提供喷淋物；所述喷淋管道上设有与所述喷淋管道内部相连通的喷口，所述喷口朝向所述光栅尺，用于向所述光栅尺喷淋所述喷淋物；刷头清洁装置，位于所述光栅尺的正下方，对所述光栅尺进行清洁处理。通过上述喷淋装置和刷头清洁装置的双重清洁效果，可以有效清洁光栅尺上的漏液和灰尘，提高光栅尺清洁效率，避免曝光机台宕机。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种清洁装置及半导体设备。

背景技术

通常在半导体FAB厂里，曝光机工作台下方设置有水管，为曝光机工作台提供冷却功能，以使机台控制端及工作台的温度保持恒定，确保曝光机台能够长时间持续运行。随着曝光机台工作时间的延长，水管管道不可避免的出现漏水现象。若漏水滴落到曝光机台下方的光栅尺上，会导致光栅尺上机台定位的精度出现偏差，精度偏差引发曝光机台宕机。由于更换的机台零部件需要从其他地区调运，耗时严重，会影响机台的运行时间，降低曝光机台产量。

发明内容

基于此，有必要针对上述背景技术中的问题，提供一种清洁装置及半导体设备，实时检测是否有漏液，判断漏液位置，并清除光栅尺上的漏液，提高曝光机台产量。

为解决上述技术问题，本申请的第一方面提出一种清洁装置，用于对光栅尺进行清洁处理，包括：

喷淋装置，包括喷淋管道及喷淋物供给装置，所述喷淋物供给装置与所述喷淋管道相连接，用于向所述喷淋管道内提供喷淋物；所述喷淋管道上设有与所述喷淋管道内部相连通的喷口，所述喷口朝向所述光栅尺，用于向所述光栅尺喷淋所述喷淋物；

刷头清洁装置，位于所述光栅尺的正下方，用于对所述光栅尺进行清洁处理。

在其中一个实施例中，多个所述喷口间隔排列，且相邻的所述喷口的边缘之间的间距为1cm～2cm。

在其中一个实施例中，所述喷淋管道的长度大于或等于所述光栅尺的长度。

在其中一个实施例中，所述喷淋装置还包括加热模块，用于对所述喷淋物进行加热处理。

在其中一个实施例中，所述喷淋物包括压缩空气，所述喷淋物供给装置包括空气压缩机。

在其中一个实施例中，所述刷头清洁装置包括：

清洁刷头，用于对所述光栅尺进行清洁处理；

驱动装置，与所述清洁刷头相连接，用于驱动所述清洁刷头沿所述光栅尺的长度方向移动。

在其中一个实施例中，所述驱动装置包括：

滑槽，位于所述光栅尺的下方，且与所述光栅尺平行；

刷头固定板，位于所述滑槽上；所述刷头固定板内设置有第一电机及第二电机；所述第二电机用于驱动所述刷头固定板沿所述滑槽移动；

摇杆，所述摇杆的第一端与所述第一电机连接，所述摇杆的第二端与所述清洁刷头相连接，所述摇杆在所述第一电机驱动下带动所述清洁刷头旋转。

在其中一个实施例中，所述滑槽上设有齿轮条，所述第二电机上设有齿轮，所述齿轮与所述齿轮条相咬合。

在其中一个实施例中，所述齿轮条的长度大于或等于所述光栅尺的长度；所述清洁刷头的宽度大于或等于所述光栅尺的宽度。

本申请的第二方面提出一种半导体设备，包括：

横梁；

冷却管路，位于所述横梁上；

光栅尺，位于所述横梁下方；