[发明专利]一种原子层沉积设备的远程控制系统及方法在审
申请号: | 202110821570.7 | 申请日: | 2021-07-20 |
公开(公告)号: | CN113549903A | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 毛娃;陈焰;夏洋;冯家恒;明帅强;刘振强 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/455 |
代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人: | 王春艳 |
地址: | 650032 云南省*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 设备 远程 控制系统 方法 | ||
本申请公开一种原子层沉积设备的远程控制系统及方法,系统包括:原子层沉积设备、远程控制器和服务器;原子层沉积设备包括无线通信模块、处理器模块和设备主体,所述处理器模块与所述无线通信模块连接;所述设备主体包括温控模块、气体流量控制模块和原子层沉积腔室,所述设备主体与所述处理器模块连接。可以避免操作人员频繁往返实验室或者工厂的厂房,能够实现对于原子层沉积设备的远程控制。
技术领域
本申请涉及远程控制技术领域,尤其涉及一种原子层沉积设备的远程控制系统及方法。
背景技术
原子层沉积技术是近年来迅速发展的特殊薄膜制造技术,而且原子层沉积设备已经成为半导体制造领域不可缺少的关键设备。目前,原子层沉积设备通常需要放置在实验室中或者工厂厂房内,对于原子层沉积设备的控制操作需要实地现场操作。设备在启动过程中需要有至少半小时的热机升温过程,待温度和压力稳定后才可以进行工艺试验或者投入生产运行,在设备热机升温过程中、工艺试验过程中或者生产运行过程中对于设备的控制操作均需要操作人员在设备现场进行操作,操作人员需要频繁往返实验室或者工厂的厂房,频繁的往返过程浪费时间和精力,难以实现对于原子层沉积设备的远程控制。
发明内容
本申请实施例提供了一种原子层沉积设备的远程控制系统及方法,可以避免操作人员频繁往返实验室或者工厂的厂房,能够实现对于原子层沉积设备的远程控制。
本申请实施例的第一方面,提供一种原子层沉积设备的远程控制系统,包括:原子层沉积设备、远程控制器和服务器;
所述原子层沉积设备包括无线通信模块、处理器模块和设备主体,所述处理器模块与所述无线通信模块连接;所述设备主体包括温控模块、气体流量控制模块和原子层沉积腔室,所述设备主体与所述处理器模块连接;
所述远程控制器用于通过所述服务器向所述原子层沉积设备下发控制指令,所述无线通信模块用于接收所述控制指令,所述处理器模块用于根据所述控制指令通过所述温控模块控制所述原子层沉积腔室的温度、通过所述气体流量控制模块控制反应气体和载气通入所述原子层沉积腔室以及控制所述反应气体和所述载气的通入量。
在一些实施方式中,所述原子层沉积设备还用于通过所述无线通信模块和所述服务器向所述远程控制器发送所述处理器模块采集到的设备数据,所述设备数据包括所述原子层沉积设备开启过程中和运行中的相关数据。
在一些实施方式中,所述原子层沉积设备还包括电源和继电器,所述电源与所述继电器连接;
所述处理器模块包括电源开关控制单元,所述电源开关控制单元用于控制所述继电器的通断,所述继电器的通断用于控制所述原子层沉积设备的开启和关闭。
在一些实施方式中,所述温控模块包括加热单元和测温单元;
所述加热单元用于控制所述原子层沉积腔室升温,所述测温单元分别与所述处理器模块、所述加热单元和所述原子层沉积腔室连接。
在一些实施方式中,所述气体流量控制模块包括气动电磁阀、隔膜阀和流量计,所述气动电磁阀与所述处理器模块连接,所述气动电磁阀用于控制所述隔膜阀,所述流量计用于测量所述反应气体和所述载气的通入量。
在一些实施方式中,所述原子层沉积设备还包括多条气体管路,所述气体管路上设置有所述气体流量控制模块,所述气体管路用于向所述原子层沉积腔室通入对应的所述反应所述气体和所述载气,所述反应气体通过装有有机金属前驱体钢瓶提供,所述载气不参与所述原子层沉积腔室内的化学反应。
在一些实施方式中,所述原子层沉积设备还包括真空泵,所述真空泵用于抽走所述原子层沉积腔室内的气体,以调节和控制所述原子层沉积腔室内的气体压强;
所述处理器模块还用于根据所述控制指令控制所述真空泵的运行。
在一些实施方式中,所述远程控制器为移动远程控制器。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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