[发明专利]一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器在审

专利信息
申请号: 202110822448.1 申请日: 2021-07-21
公开(公告)号: CN113671720A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 潘盼;闻军;查申龙;马宏亮;占生宝 申请(专利权)人: 安庆师范大学
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28
代理公司: 北京恒和顿知识产权代理有限公司 11014 代理人: 沈杨
地址: 246000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 对称 马赫 干涉仪 inp 偏振 分束器
【权利要求书】:

1.一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,包括:

输入波导(1)、第一多模干涉仪(2)、第一波导(3)、第二波导(4)、第二多模干涉仪(5)、第一输出波导(6)和第二输出波导(7);

所述输入波导(1)与第一多模干涉仪(2)直接连接,所述输入波导(1)通过第一多模干涉仪(2)分别与第一波导(3)、第二波导(4)连接,所述第一波导(3)和所述第二波导(4)均与第二多模干涉仪(5)连接,所述第二多模干涉仪(5)分别与第一输出波导(6)和第二输出波导(7)连接。

2.根据权利要求1所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,所述第一波导(3)为宽臂型浅脊波导,所述宽臂型浅脊波导由InP衬底(8)、InP缓冲层(9)、InGaAsP芯层(10)、InP覆盖层(11)组成;所述第二波导(4)为窄臂型深脊波导,所述窄臂型深脊波导由InP衬底(8)、InP缓冲层(9)、InGaAsP芯层(10)、InP覆盖层(11)组成。

3.根据权利要求1所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,所述第一波导(3)的宽度为5.5微米,所述第二波导(4)的宽度为4微米。

4.根据权利要求1所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,第一多模干涉仪(2)为1×2多模干涉仪。

5.根据权利要求4所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,第二多模干涉仪(5)为2×2多模干涉仪。

6.根据权利要求1所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,臂长计算公式为:

(Δn)TE·L=N·λ

其中L为臂长,λ为工作波长,N和M分别为正整数。

7.根据权利要求1所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,偏振消光比的公式为:

其中,PTE/PTM分别是TE/TM偏振光的输出光功率。

8.根据权利要求1所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,损耗(IL)的公式为:

其中,PTE/PTM分别是TE/TM偏振光的输出光功率,Pinput是输入光功率。

9.根据权利要求1所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,波导制作工艺如下:

(1)在InP衬底(8)片上依次沉积生长5微米厚度的InP缓冲层(9)、0.5微米厚度的InGaAsP芯层(10)和1.5微米厚度的InP覆盖层(11);

(2)先对器件整体进行一次浅刻蚀,即刻蚀1.7微米,芯层只刻蚀了0.2微米,形成浅脊波导结构;

(3)再将宽臂区域保护后进行二次刻蚀,刻蚀深度大于1.5微米,即刻透缓冲层,形成强限制深脊型波导。

10.根据权利要求9所述的一种基于双非对称臂马赫-曾德干涉仪的InP偏振分束器,其特征在于,步骤(1)中的InP缓冲层(9)、InGaAsP芯层(10)、InP覆盖层(11)的折射率分别为3.169、3.253、3.169。

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