[发明专利]光电元件在审

专利信息
申请号: 202110822932.4 申请日: 2018-02-12
公开(公告)号: CN113659049A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 叶宗勋;张利铭;沈建赋 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/38;H01L33/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光电 元件
【权利要求书】:

1.一种光电元件,包括:

半导体叠层,包括第一半导体层、活性层位于该第一半导体层上以及第二半导体层位于该活性层上;

电流阻挡区,形成于该第二半导体层上且包括第一衬垫部;

第一开口,形成于该第一衬垫部中并将该第一衬垫部分割成多个部分;

透明导电层,形成于该电流阻挡区上及该半导体叠层的表面上,且该透明导电层包括第二开口曝露出该第一开口;以及

第一电极,形成于该透明导电层上,包含第一焊垫电极位于该第一衬垫部上;

其中该第一焊垫电极通过该第一开口及该第二开口接触该第二半导体层。

2.如权利要求1所述的光电元件,其中该电流阻挡区还包括第一指状部。

3.如权利要求1所述的光电元件,其中该第一开口面积为A2,该第一衬垫部与该第一开口的面积总和为A3,以及A2/A3=1%~80%。

4.如权利要求1所述的光电元件,其中,由俯视观之,该第一衬垫部的外缘与该第一开口的虚拟边缘构成轮廓,该轮廓包括合成形状;以及于该合成形状的中心处,该第一开口还包括开口区。

5.如权利要求1所述的光电元件,其中,由俯视观之,该第一衬垫部的外缘与该第一开口的虚拟边缘构成轮廓,该轮廓包括合成形状;其中该合成形状为多边形。

6.如权利要求1所述的光电元件,其中该第一开口包括细长形状。

7.如权利要求6所述的光电元件,其中该细长形状的宽度小于或等于10μm。

8.如权利要求1所述的光电元件,还包括第二电极,形成于该第一半导体层上;以及其中该电流阻挡区还包括第二衬垫部,形成于该第一半导体层与该第二电极之间。

9.如权利要求8所述的光电元件,其中该第二电极包括第二焊垫电极以及第二指状电极;以及该电流阻挡区还包括第二指状部,形成于该第一半导体层与该第二指状电极之间。

10.如权利要求9所述的光电元件,其中该第二指状部包括多个分离的岛状物,间隔地排列于该第二指状电极之下。

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