[发明专利]印刷电路板及其CO2 在审
申请号: | 202110823849.9 | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN113543469A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 袁琥 | 申请(专利权)人: | 高德(无锡)电子有限公司 |
主分类号: | H05K1/11 | 分类号: | H05K1/11;H05K1/02;H05K3/42;H05K3/00 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 殷红梅;涂三民 |
地址: | 214101 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 印刷 电路板 及其 co base sub | ||
1.一种印刷电路板,其特征是:它包括硬板基板、第一半固化片(31)、第二半固化片(32)、覆盖上铜箔(41)与覆盖下铜箔(42);所述硬板基板包括基板绝缘层(12)、位于基板绝缘层(12)的上表面的基板上铜箔(11)以及位于基板绝缘层(12)的下表面的基板下铜箔(13),在基板上铜箔(11)上具有线路,在基板下铜箔(13)上具有线路与连接用铜箔(14);
在基板上铜箔(11)的上方设有覆盖上铜箔(41),相邻的覆盖上铜箔(41)之间以及基板上铜箔(11)与相邻的覆盖上铜箔(41)之间设有第一半固化片(31);在基板下铜箔(13)的下方设有覆盖下铜箔(42),相邻的覆盖下铜箔(42)之间以及基板下铜箔(13)与相邻的覆盖下铜箔(42)之间设有第二半固化片(32);在覆盖上铜箔(41)与覆盖下铜箔(42)上均具有线路,且所述连接用铜箔(14)的下表面外露;
在覆盖上铜箔(41)、第一半固化片(31)、硬板基板、第二半固化片(32)与覆盖下铜箔(42)内一体开设有导通孔,在导通孔内进行填铜,形成导通柱,覆盖上铜箔(41)、基板上铜箔(11)、基板下铜箔(13)与覆盖下铜箔(42)通过导通柱导通,在对应连接用铜箔(14)外侧的覆盖上铜箔(41)、第一半固化片(31)、硬板基板、第二半固化片(32)与覆盖下铜箔(42)内设有废料槽口。
2.权利要求1所述的印刷电路板的CO2镭射烧窗开盖方法,其特征是该方法包括以下步骤:
S1、提供硬板基板,硬板基板包括基板绝缘层(12)、位于基板绝缘层(12)的上表面的基板上铜箔(11)以及位于基板绝缘层(12)的下表面的基板下铜箔(13),在基板上铜箔(11)上蚀刻出线路,在基板下铜箔(13)上蚀刻出线路并留下连接用铜箔(14);
S2、在连接用铜箔(14)的位置印刷覆盖膜(2);
S3、提供第一半固化片(31)与第二半固化片(32);
S4、提供覆盖上铜箔(41)与覆盖下铜箔(42);
S5、按照从上往下的顺序将覆盖上铜箔(41)、第一半固化片(31)、基板、第二半固化片(32)与覆盖下铜箔(42)进行叠放,叠放后热熔压合在一起,得到印刷电路板半成品;
S6、利用CO2镭射钻孔机对印刷电路板半成品进行钻孔,形成导通孔,然后在导通孔内进行填铜,形成导通柱,使覆盖上铜箔(41)、基板上铜箔(11)、基板下铜箔(13)与覆盖下铜箔(42)通过导通柱导通;
S7、在覆盖上铜箔(41)上蚀刻出线路,在覆盖下铜箔(42)上蚀刻出线路并把正对印刷覆盖膜(2)位置的覆盖下铜箔(42)上蚀刻出窗口;
S8、利用CO2镭射钻孔机在所述窗口范围内围绕连接用铜箔(14)的边缘进行连续钻孔以形成闭合轨迹,钻孔时,控制后一次钻孔必须覆盖前一次钻孔的圆心,钻孔深度必须控制在钻透第二半固化片(32)与覆盖膜(2)并达到连接用铜箔(14)的下表面;
S9、在连接用铜箔(14)外侧的废料区域进行捞槽,形成废料槽口,捞槽时必须捞透覆盖上铜箔(41)与覆盖下铜箔(42);
S10、通过废料槽口将覆盖在连接用铜箔(14)上的第二半固化片(32)与覆盖膜(2)揭下,使连接用铜箔(14)的下表面外露,得到印刷电路板成品。
3.根据权利要求2所述的印刷电路板的CO2镭射烧窗开盖的方法,其特征是:步骤S5中,热熔压合时温度控制在180~205℃、压力控制在2.0~2.8Mpa、压合时间控制在80~100min。
4.根据权利要求2所述的印刷电路板的CO2镭射烧窗开盖的方法,其特征是:步骤S6中,钻孔孔径控制在0.1~0.2mm。
5. 根据权利要求2所述的印刷电路板 CO2镭射烧窗开盖的方法,其特征是:步骤S8中,钻孔孔径控制在0.1~0.2mm。
6. 根据权利要求2所述的印刷电路板 CO2镭射烧窗开盖的方法,其特征是:所述覆盖膜(2)为湿式覆盖膜或者干式覆盖膜。
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