[发明专利]一种光线扩散均匀的扩散膜及其生产工艺

权利要求书

1.一种光线扩散均匀的扩散膜，其特征在于，包括上扩散片（1）、PET膜（2）、下扩散片（3）、抗刮伤层（4）以及透镜层（5），上扩散片（1）、PET膜（2）、透镜层（5）和下扩散片（3）从上至下依次叠加，且抗刮伤层（4）包覆在上扩散片（1）和下扩散片（3）位于外部的表面上；

透镜层（5）包括从上至下依次连接的第一滤光片（51）、第二滤光片（52）、粘结层（53）和TFT基板（54），第一滤光片（51）、TFT基板（54）和第二滤光片（52）从上至下依次叠加，并且第一滤光片（51）、TFT基板（54）和第二滤光片（52）之间通过粘结层（53）固定；

上扩散片（1）和下扩散片（3）相向的表面上分别加工有第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31），上扩散片（1）的第一镶嵌槽（11）与PET膜（2）的顶面接触连接，下扩散片（3）的第二镶嵌槽（31）与第二滤光片（52）的底面接触连接；

第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）的长度方向沿上扩散片（1）和下扩散片（3）水平面倾斜设置，并且第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）的长度倾斜角度相同，第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）的高度方向沿上扩散片（1）和下扩散片（3）竖直面倾斜设置，并且第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）的高度倾斜角度相同，其中，第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）以同方向叠加则第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）之间等间距的平行排列；

第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）内填充光学散光扩散粒子，且光学散光扩散粒子为球状且粒径大小不一。

2.一种如权利要求1所述的光线扩散均匀的扩散膜的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤；

S1：准备扩散膜用组合物的工序；

S2：第一滤光片（51）、第二滤光片（52）和TFT基板（54）上涂覆粘结层（53），第一滤光片（51）、第二滤光片（52）和TFT基板（54）之间利用粘结层（53）粘合在一起，PET膜（2）贴合在第一滤光片（51）上；

S3：上扩散片（1）和下扩散片（3）移动至加工车床上，其车床上的钻头以倾斜角度对第一滤光片（51）和第二滤光片（52）表面加工形成第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）；

S4：并在第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）内倒入扩散粒子溶液，放置烘干机内快速烘干，上扩散片（1）和下扩散片（3）分别粘合在PET膜（2）和第二滤光片（52）上。

3.如权利要求2所述的一种光线扩散均匀的扩散膜的生产工艺，其特征在于，针对步骤S4中，第一镶嵌槽（11）和第二镶嵌槽（31）的槽深为1～40μm的范围内。