[发明专利]一种检测方法和装置在审
申请号: | 202110825374.7 | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN113643995A | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
发明(设计)人: | 张和;艾义明;於成星;颜元;顾鹏 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/265 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 高洁;张颖玲 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 检测 方法 装置 | ||
1.一种检测方法,其特征在于,包括:
将测试晶圆放置到离子注入机台中,对所述测试晶圆进行离子注入;
在所述离子注入后,获取所述测试晶圆的彩色图像;
根据所述测试晶圆的彩色图像,判断所述测试晶圆的离子注入情况。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取所述测试晶圆的彩色图像,包括:
基于图像传感器RGBC获取所述测试晶圆的彩色图像。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述测试晶圆的彩色图像,判断所述测试晶圆的离子注入情况,包括:
将所述测试晶圆的彩色图像与标准晶圆的彩色图像进行比较;
根据比较结果判断所述测试晶圆的离子注入情况。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据比较结果判断所述测试晶圆的离子注入情况,包括:
若所述测试晶圆的彩色图像与标准晶圆的彩色图像的颜色特征相同,则判断所述测试晶圆的离子注入情况正常;
若所述测试晶圆的彩色图像与标准晶圆的彩色图像的颜色特征不同,则判断所述测试晶圆的离子注入情况异常。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将测试晶圆放置到离子注入机台中,对所述测试晶圆进行离子注入,包括:
将测试晶圆放置到离子注入机台中,对所述测试晶圆进行分区域离子注入;
所述测试晶圆上每个区域对应的离子注入参数不同。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据所述测试晶圆的彩色图像,判断所述测试晶圆的离子注入情况,包括:
获取所述测试晶圆的彩色图像上每个区域对应的颜色特征;
将每个区域对应的颜色特征进行比较;
根据比较结果判断所述测试晶圆是否已进行所述分区域离子注入。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述根据比较结果判断所述测试晶圆是否已进行所述分区域离子注入,包括:
若每个区域对应的颜色特征不同,则判断所述测试晶圆已进行所述分区域离子注入;
若每个区域对应的颜色特征相同,则判断所述测试晶圆未进行所述分区域离子注入。
8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据所述彩色图像,判断所述测试晶圆的离子注入情况,包括:
获取所述测试晶圆的彩色图像上每个区域对应的颜色特征;
针对每个区域,根据该区域的离子注入参数从预设数据库中获取对应的标准颜色特征;将所述颜色特征与所述标准颜色特征进行比较;根据比较结果判断该区域的离子注入情况。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述根据比较结果判断该区域的离子注入情况,包括:
针对每个区域,若该区域对应的颜色特征与标准颜色特征不同,则判断该区域的离子注入情况异常;
针对每个区域,若该区域对应的颜色特征与标准颜色特征相同,则判断该区域的离子注入情况正常。
10.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,
所述离子注入参数包括以下至少之一:离子注入角度、离子注入能量、离子注入元素和离子注入浓度。
11.一种检测装置,其特征在于,所述装置包括:
离子注入模块,用于对测试晶圆进行离子注入;
获取模块,用于在所述离子注入后,获取所述测试晶圆的彩色图像;
判断模块,用于根据所述测试晶圆的彩色图像,判断所述测试晶圆的离子注入情况。
12.根据权利要求11所述的装置,其特征在于,所述获取模块具体用于:
基于图像传感器RGBC获取所述测试晶圆的彩色图像。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造