[发明专利]动态随机存取存储器小晶片结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110834125.4 申请日: 2021-07-20
公开(公告)号: CN114093872A 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 陈文良 申请(专利权)人: 爱普科技股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 北京威禾知识产权代理有限公司 11838 代理人: 王月玲
地址: 中国台湾新竹县*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 动态 随机存取存储器 晶片 结构 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种动态随机存取存储器(DRAM)小晶片结构,其包含:

一第一混合键合结构,其具有一第一表面及一第二表面;

一DRAM介面结构,其接触该第一混合键合结构的该第一表面;及

一第一DRAM核心结构,其接触该第一混合键合结构的该第二表面,且该DRAM介面结构是经该第一混合键合结构而与该第一DRAM核心结构电性连接。

2.如权利要求1所述的DRAM小晶片结构,其中该第一DRAM核心结构至少包含一DRAM阵列区域、一行解码器及一列解码器。

3.如权利要求1所述的DRAM小晶片结构,其中该DRAM介面结构至少包含一数据输入输出缓冲器及一命令及/或地址缓冲器。

4.如权利要求1所述的DRAM小晶片结构,其中该第一DRAM核心结构或该DRAM介面结构至少包含一读取/写入缓冲器、一控制逻辑、一测试逻辑、一电源供应器及/或一冗余修复器。

5.如权利要求1所述的DRAM小晶片结构,其进一步包含:

至少一第二混合键合结构,其位于该第一DRAM核心结构上;及

至少一第二DRAM核心结构,其位于该第二混合键合结构上。

6.如权利要求5所述的DRAM小晶片结构,其进一步包含一第一穿透通孔,该穿透通孔电性连接该第二DRAM核心结构及该DRAM介面结构。

7.如权利要求5所述的DRAM小晶片结构,其中该至少一第二DRAM核心结构包含复数个第二DRAM核心结构,且一最顶部第二DRAM核心结构是所述这些第二DRAM核心结构当中最厚者。

8.一种半导体结构,其包含:

至少一动态随机存取存储器(DRAM)小晶片结构,每个所述DRAM小晶片结构包含:

一DRAM介面结构;及

至少一DRAM核心结构,其是经一晶圆键合技术键合于该DRAM介面结构上;及

一半导体晶粒,其具有一逻辑电路结构,其中该半导体晶粒是经一键合结构电性连接于该DRAM小晶片结构。

9.如权利要求8所述的半导体结构,其中该键合结构包含一第一混合键合结构位于该DRAM小晶片结构及该半导体晶粒之间。

10.如权利要求8所述的半导体结构,其中该键合结构包含一导电凸块连接件接触该DRAM小晶片结构及该半导体晶粒。

11.如权利要求8所述的半导体结构,进一步包含一中介板支撑该DRAM小晶片结构及该半导体晶粒。

12.如权利要求8所述的半导体结构,其中该半导体晶粒包含复数个第二穿透通孔接触该键合结构。

13.如权利要求8所述的半导体结构,其进一步包含:

一介电材料,其环绕该DRAM小晶片结构;及

复数个通孔,其被该介电材料所环绕,所述这些通孔接触该半导体晶粒及一导电凸块,其中该DRAM小晶片结构是位于该半导体晶粒及该导电凸块之间。

14.如权利要求8所述的半导体结构,其中该至少一DRAM核心结构包含复数个DRAM核心结构,所述这些DRAM核心结构经复数个第二混合键合结构而相互电性连接。

15.如权利要求8所述的半导体结构,其中该至少一DRAM小晶片结构包含复数个DRAM小晶片结构排列为一行或一阵列,且未被分割。

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