[发明专利]动态随机存取存储器小晶片结构及其制造方法在审
申请号: | 202110834125.4 | 申请日: | 2021-07-20 |
公开(公告)号: | CN114093872A | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 陈文良 | 申请(专利权)人: | 爱普科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L21/8242 |
代理公司: | 北京威禾知识产权代理有限公司 11838 | 代理人: | 王月玲 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 动态 随机存取存储器 晶片 结构 及其 制造 方法 | ||
1.一种动态随机存取存储器(DRAM)小晶片结构,其包含:
一第一混合键合结构,其具有一第一表面及一第二表面;
一DRAM介面结构,其接触该第一混合键合结构的该第一表面;及
一第一DRAM核心结构,其接触该第一混合键合结构的该第二表面,且该DRAM介面结构是经该第一混合键合结构而与该第一DRAM核心结构电性连接。
2.如权利要求1所述的DRAM小晶片结构,其中该第一DRAM核心结构至少包含一DRAM阵列区域、一行解码器及一列解码器。
3.如权利要求1所述的DRAM小晶片结构,其中该DRAM介面结构至少包含一数据输入输出缓冲器及一命令及/或地址缓冲器。
4.如权利要求1所述的DRAM小晶片结构,其中该第一DRAM核心结构或该DRAM介面结构至少包含一读取/写入缓冲器、一控制逻辑、一测试逻辑、一电源供应器及/或一冗余修复器。
5.如权利要求1所述的DRAM小晶片结构,其进一步包含:
至少一第二混合键合结构,其位于该第一DRAM核心结构上;及
至少一第二DRAM核心结构,其位于该第二混合键合结构上。
6.如权利要求5所述的DRAM小晶片结构,其进一步包含一第一穿透通孔,该穿透通孔电性连接该第二DRAM核心结构及该DRAM介面结构。
7.如权利要求5所述的DRAM小晶片结构,其中该至少一第二DRAM核心结构包含复数个第二DRAM核心结构,且一最顶部第二DRAM核心结构是所述这些第二DRAM核心结构当中最厚者。
8.一种半导体结构,其包含:
至少一动态随机存取存储器(DRAM)小晶片结构,每个所述DRAM小晶片结构包含:
一DRAM介面结构;及
至少一DRAM核心结构,其是经一晶圆键合技术键合于该DRAM介面结构上;及
一半导体晶粒,其具有一逻辑电路结构,其中该半导体晶粒是经一键合结构电性连接于该DRAM小晶片结构。
9.如权利要求8所述的半导体结构,其中该键合结构包含一第一混合键合结构位于该DRAM小晶片结构及该半导体晶粒之间。
10.如权利要求8所述的半导体结构,其中该键合结构包含一导电凸块连接件接触该DRAM小晶片结构及该半导体晶粒。
11.如权利要求8所述的半导体结构,进一步包含一中介板支撑该DRAM小晶片结构及该半导体晶粒。
12.如权利要求8所述的半导体结构,其中该半导体晶粒包含复数个第二穿透通孔接触该键合结构。
13.如权利要求8所述的半导体结构,其进一步包含:
一介电材料,其环绕该DRAM小晶片结构;及
复数个通孔,其被该介电材料所环绕,所述这些通孔接触该半导体晶粒及一导电凸块,其中该DRAM小晶片结构是位于该半导体晶粒及该导电凸块之间。
14.如权利要求8所述的半导体结构,其中该至少一DRAM核心结构包含复数个DRAM核心结构,所述这些DRAM核心结构经复数个第二混合键合结构而相互电性连接。
15.如权利要求8所述的半导体结构,其中该至少一DRAM小晶片结构包含复数个DRAM小晶片结构排列为一行或一阵列,且未被分割。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的