[发明专利]一种可调节双面研磨装置及其研磨方法在审

专利信息
申请号: 202110836993.6 申请日: 2021-07-23
公开(公告)号: CN113427396A 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 彭浩;李子轩;田浩晟;吴继华 申请(专利权)人: 南京涵铭置智能科技有限公司
主分类号: B24B37/02 分类号: B24B37/02;B24B37/34;B24B55/06;B24B55/12;B24B1/00
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地址: 211100 江苏省南京市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 调节 双面 研磨 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种可调节双面研磨装置,其特征在于包括,

工作组件,包括与转动机构固定连接的上研磨装置,与所述上研磨装置相对转动设置的下研磨盘,所述下研磨盘与上研磨装置之间活动设置有置料件,组成加工区域;

驱动组件,包括机架,以预定角度沿所述机架均匀分布的转动机构,用于驱动所述上研磨装置。

2.根据权利要求1所述的一种可调节双面研磨装置,其特征在于:所述下研磨盘下方垂直预定距离固定连接有集尘盖,形成集尘腔体。

3.根据权利要求1所述的一种可调节双面研磨装置,其特征在于:所述转动机构包括均匀分布在机架周边的转动轴,以及所述转动轴控制转动的转向杆,所述转向杆沿径向延伸汇聚固定连接在所述上研磨装置上,转动轴沿轴向设置有啮合齿。

4.根据权利要求1所述的一种可调节双面研磨装置,其特征在于:所述机架俯视面为“凹”字型,沿轴向延伸内部中空,端面沿竖直方向均开设有通孔,用于放置下沿磨盘以及工件传输,所述机架一侧连接有翻转台。

5.根据权利要求4所述的一种可调节双面研磨装置,其特征在于:所述下研磨盘中心设置有通孔,沿下端面周向均匀分布有多个调节杆,所述调节杆活动连接在机架上,所述下研磨盘外侧直径大于上研磨装置直径,所述下研磨盘周边设置有啮合齿。

6.根据权利要求1所述的一种可调节双面研磨装置,其特征在于:所述上研磨装置包括本体,沿所述本体内侧分布且滑动连接的清洁刷,以及与所述清洁刷间隙配合的上研磨盘,所述清洁刷与所述下研磨盘相向运动。

7.根据权利要求4所述的一种可调节双面研磨装置,其特征在于:所述翻转台包括固定在所述机架上方的滑块,沿所述滑块轴向开设的通槽,用于放置齿轮齿条机构,以及固定连接在所述滑块上方的缓冲件。

8.根据权利要求7所述的一种可调节双面研磨装置,其特征在于:所述齿轮齿条机构包括沿周向180°设置啮合齿的齿轮,所述齿轮固定连接有转轴,所述转轴中部固定连接有支撑块与所述齿轮同步运动,所述缓冲件沿支撑块移动方向均匀分布在滑块上。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的一种可调节双面研磨装置的研磨方法,其特征在于包括如下步骤:

S1、将待加工工件放置置料件中,翻转台夹紧置料件并传送至检测装置下方;

S2、检测装置对置料件内的待加工工件进行表面粗糙度检测并统计数据,根据数据显示配置相应的粗糙度研磨盘;

S3、研磨盘配置完成,传送装置将置料件紧固在机架内部,下研磨盘上升抵住待加工工件下表面;

S4、转动机构带动上研磨装置贴紧待加工工件上表面;

S5、上研磨盘与下研磨盘相对转动进行加工;

S6、研磨完毕,系统提取加工过程中参数进行数据统计;

S7、上研磨伸缩至上研磨装置内,带动伸缩件移动,清洁刷滑出开始清洁。

10.根据权利要求9中所述的一种可调节双面研磨装置的研磨方法,其特征在于,所述数据统计系统包括如下步骤:

S1、工件加工完毕,提取相关数据并存储;

S2、根据研磨所施加的力、加工时间以及磨具与工件接触面积,系统设定判断压磨盘损坏情况;

S3、当损坏指数大于预定值,视频提示显示更换磨具。

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