[发明专利]一种可调节双面研磨装置及其研磨方法

说明书

本发明提供一种可调节双面研磨装置及其研磨方法，通过转动机构带动上下研磨具相向运动实现稳定工作，转动机构采用带齿轮啮合的转动轴，如此转动机构转动的同时可实现下研磨盘的上下调节以及转动，有效提高工作效率，并可通过转动轴调速以及可翻转的翻转台实现粗加工以及精加工，有效减少装夹频率。可伸缩式的上研磨盘旋转过程中可同时多个加工不同高度的工件，并始终贴合工件表面提高研磨质量，并且内部贴合的清洁刷有效解决了在加工后残余磨料以废屑的问题，清洁刷与上研磨盘通过伸缩件实现相向运动，有效减少相互工作干扰，下研磨盘底部结构对杂质有效收集便于清洁，对研磨盘使用情况实时监控，有效保证研磨装置工作有效性，提高工作质量。

技术领域

本发明涉及研磨技术领域，具体涉及一种可调节双面研磨装置及其研磨方法。

背景技术

研磨机采用磨料颗粒实现不同粗糙度的研磨，通过研磨头对工件施加一定压力，相对运动产生摩擦力，对加工表面进行切削加工，研磨机可加工各种材料以及表面形状，在工业领域中使用广泛。

现有的研磨机在研磨小型轴类零件时，研磨头在同时研磨多个高低不一的工件时，无法使研磨头始终贴合每一个表面，从而研磨头表面磨损程度不同，无法保证表面整体的研磨质量，同时研磨过程中产生的粉末过多堆积，容易不断堵塞研磨头内槽，影响研磨效果并且损坏研磨头。

发明内容

发明目的：提供一种可调节双面研磨装置及其研磨方法，通过可伸缩式的上研磨盘实现同时加工不同高度的工件，从而解决了现有技术存在的上述问题。

技术方案：一种可调节双面研磨装置，包括工作组件、驱动组件以及翻转台三部分，

其中，工作组件，包括与所述转动机构固定连接的上研磨装置，与所述上研磨装置相对转动设置的下研磨盘，所述下研磨盘与上研磨装置之间活动设置有置料件，组成加工区域；

驱动组件，包括机架，以预定角度沿所述机架均匀分布的转动机构，用于驱动所述上研磨装置。

在进一步的实施例中，所述下研磨盘下方垂直预定距离固定连接有集尘盖，形成集尘腔体。有效防止加工后残余的磨料堆积在研磨盘上，避免长期不处理而导致研磨效果降低，并且直接损坏研磨盘。

在进一步的实施例中，所述转动机构包括均匀分布在机架周边的转动轴，以及所述转动轴控制转动的转向杆，所述转向杆沿径向延伸汇聚固定连接在所述上研磨装置上，转动轴沿轴向设置有啮合齿。转动轴带动转动杆控制上研磨盘转动，并通过下研磨盘与转动轴齿轮啮合转动，从而保证上下研磨盘同步转动。啮合齿沿转动轴轴向延伸预定长度，形成具有预定宽度的啮合齿，下研磨盘下端沿周向设置有调节杆，调节杆沿下研磨盘上的啮合齿上下移动可实现下研磨盘的移动，使下研磨盘贴近工件表面，从而保证研磨质量。

在进一步的实施例中，所述机架俯视面为“凹”字型，沿轴向延伸内部中空，端面沿竖直方向均开设有通孔，用于放置下沿磨盘以及工件传输，所述机架一侧连接有翻转台。中空设计给予下研磨盘足够空间，便于加工不同高度的工件，翻转台用于工件翻转，实现粗精研磨。

在进一步的实施例中，所述下研磨盘中心设置有通孔，沿下端面周向均匀分布有多个调节杆，所述调节杆活动连接在机架上，所述下研磨盘外侧直径大于上研磨装置直径，所述下研磨盘周边设置有啮合齿。为保证磨具运动轨迹均匀的遍及整个工件表面，使工件表面受到均匀磨损，从而提高研磨质量。

在进一步的实施例中，所述上研磨装置包括本体，沿所述本体内侧分布且滑动连接的清洁刷，以及与所述清洁刷间隙配合的上研磨盘，所述清洁刷与所述下研磨盘相向运动。上研磨盘上端固定有伸缩件，伸缩件在上研磨盘工作时始终抵住清洁刷，防止清洁刷掉落，当上研磨盘移动至内部，伸缩件跟随移动至清洁刷上方，从而放松对清洁刷的禁锢。