[发明专利]一种化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法

权利要求书

1.一种化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，其特征在于，包括：对FeNi合金薄板进行预处理，所述预处理包括对FeNi合金薄板依次进行第一次碱洗处理、第一次干燥处理，之后以蚀刻液均匀喷淋所述FeNi合金薄板，其中蚀刻液的温度25~35 ºC，喷淋的压力0.05~0.2MPa，以将所述FeNi合金薄板蚀刻减薄形成FeNi合金箔带，其后对所述FeNi合金箔带进行后处理，所述后处理包括依次对所述FeNi合金箔带依次进行第二次碱洗处理、第二次干燥处理；其中，所述蚀刻液包括水、8~10 mol/L盐酸和10~30 g/L FeCl₃，使FeNi合金箔带的表面粗糙度R_a为0.15~0.3。

2. 根据权利要求1所述的化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，其特征在于：所述FeNi合金薄板的厚度30~100 µm。

3. 根据权利要求1所述的化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，其特征在于：所述第一次碱洗处理采用的清洗液包括浓度为0.5~1 mol/L的KOH或NaOH水溶液。

4.根据权利要求1所述的化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，其特征在于：所述喷淋的时间为5~20分钟。

5. 根据权利要求1所述的化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，其特征在于，所述第二次碱洗处理包括：以碱溶液喷淋清洗所述FeNi合金箔带，所述碱溶液包括浓度为0.2~0.5mol/L的KOH或NaOH水溶液。

6. 根据权利要求1所述的化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，其特征在于：所述第一次干燥处理、第二次干燥处理均采用烘干方式，烘干温度为40~60 ºC。

7.根据权利要求1所述的化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，其特征在于，还包括：在完成所述后处理之后，检验所述FeNi合金箔带的表面良率。