[发明专利]反射镜，成像光学单元，以及投射曝光设备

权利要求书

1.反射镜(M6,M7)，所述反射镜作为成像光学单元(7；31)的组成部分，所述成像光学单元沿着成像光束路径将成像光(3)从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中；

-包括可用于反射的反射表面，所述反射表面包括具有基本形状(GF)的边界轮廓(RK)，所述基本形状对应于所述物场的基本形状，其中至少两个轮廓凸起(KA)沿着该边界轮廓(RK)的侧边缘布置。

2.如权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述轮廓凸起(KA)中的两个轮廓凸起沿着所述基本形状(GF)的长侧边布置。

3.如权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，至少两个轮廓凸起(KA)沿着所述边界轮廓(RK)的两个侧边缘分别布置。

4.如权利要求1至3中任一项所述的反射镜，实施为EUV反射镜。

5.如权利要求1至4中任一项所述的反射镜，其特征在于高反射的涂层。

6.如权利要求5所述的反射镜，其中，所述高反射的涂层实施为多层的涂层。

7.如权利要求1至6中任一项所述的反射镜，其特征在于其边界轮廓的基本形状为弯曲的反射表面。

8.如权利要求1至7中任一项所述的反射镜，其特征在于其边界轮廓的基本形状为矩形的反射表面。

9.投射光刻的成像光学单元(7；21；22；23；26；27；29)

-包括多个反射镜(M1至M8；M1至M6；M1至M7；M1至M9；M1至M10)，所述多个反射镜沿着成像光束路径将成像光(3)从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中；

-其中所述多个反射镜中的至少一个反射镜实施为如权利要求1至8中任一项所述的反射镜。

10.如权利要求9所述的成像光学单元，其特征在于多个如权利要求1至8中任一项所述的反射镜。

11.如权利要求9或10所述的成像光学单元，其中，具有轮廓凸起(KA)的至少一个如权利要求1至8中任一项所述的反射镜布置在所述成像光学单元的中间像的区域中。

12.如权利要求9至11中任一项所述的成像光学单元，其中，具有轮廓凸起(KA)的至少一个如权利要求1至8中任一项所述的反射镜是NI(法线入射)反射镜。

13.如权利要求9至12中任一项所述的成像光学单元，其中，具有轮廓凸起(KA)的至少一个如权利要求1至8中任一项所述的反射镜是GI(掠入射)反射镜。

14.光学系统

-包括如权利要求9至13中的任一项所述的成像光学单元；

-包括照明光学单元(6)，以来自光源(2)的照明光(3)照明所述物场(4)。

15.投射曝光设备，包括如权利要求14所述的光学系统，且包括产生所述照明光(3)的光源(2)。

16.制造结构化部件的方法，包括如下方法步骤：

-提供掩模母版(10)和晶片(11)；

-借助于如权利要求15所述的投射曝光设备，将在所述掩模母版(10)上的结构投射到所述晶片(11)的感光层上；

-在所述晶片(11)上制造微结构或纳米结构。

17.根据如权利要求16所述的方法制造的结构化部件。