[发明专利]反射镜，成像光学单元，以及投射曝光设备

说明书

本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x,y)，法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xz_HR)中传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第一平面中间像(18)。在第二成像光平面(yz)中，成像光传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第二平面中间像(19,20)。第一平面中间像(18)的数量和第二平面中间像(19,20)的数量彼此不同。结果是制造成本减少的成像光学单元。

本申请是申请日为2016年4月12日且发明名称为“将物场成像至像场中的成像光学单元，以及包括这种成像光学单元的投射曝光设备”的中国专利申请No.201680033406.7的分案申请。

本专利申请要求德国专利申请DE 10 2015 206 635.5和DE 10 2015 226 531.5的优先权，其内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及将物场成像至像场中的成像光学单元或投射光学单元。另外，本发明涉及包括这种投射光学单元的光学系统、包括这种光学系统的投射曝光设备、使用这种投射曝光设备制造微结构化部件或纳米结构化部件的方法以及由该方法制造的微结构或纳米结构化部件。另外，本发明涉及作为这种成像光学单元的组成部分的反射镜。

背景技术

从JP 2002/048977 A、US 5,891,806(其描述“邻近类型”投射曝光设备)以及从WO2008/141 686 A1和WO 2015/014 753 A1已知前文阐述类型的投射光学单元。

发明内容

本发明的目的是开发前面阐述类型的成像光学单元，使得其制造成本降低。

根据本发明，由一种投射光刻的成像光学单元实现该目的。该成像光学单元包括多个反射镜，所述多个反射镜沿着成像光束路径将成像光从物平面中的物场引导到像平面中的像场中；其中所述物场由以下跨越：第一笛卡尔物场坐标，和第二笛卡尔物场坐标，以及其中第三笛卡尔法线坐标垂直于这两个物场坐标；其中所述成像光学单元实施为使得：所述成像光在第一成像光平面中传播，成像光主要传播方向位于所述第一成像光平面中，以及所述成像光在所述第二成像光平面中传播，所述成像光主要传播方向位于所述第二成像光平面中，并且所述第二成像光平面垂直于所述第一成像光平面；其中在所述第一成像光平面中传播的所述成像光的第一平面中间像的数量和在所述第二成像光平面中传播的成像光的第二平面中间像的数量彼此不同。

成像光学单元设计为在投射光刻中使用，特别是在EUV投射光刻中使用。

成像光学单元实施为在两个成像光平面中具有不同数量的中间像的choristikonal类型的光学单元。该数量差可以恰好为1，但是它也可以更大，例如2或者甚至更大。

由对应成像光主要传播方向(z_HR)和第一笛卡尔物场坐标(x)跨越第一成像光平面(xz_HR)。成像光主要传播方向(z_HR)通过在由第二笛卡尔物场坐标(x)和法线坐标(z)跨越的平面中倾斜法线坐标z，直至最初在z方向上延伸的当前传播坐标z_HR在成像光主要传播方向的方向上延伸来导致。因此，第一成像光平面的位置随着成像光主要传播方向的各方向变化而变化。