[发明专利]用于掩模合成工具的剂量优化技术

权利要求书

1.一种方法，包括：

接收集成电路IC芯片设计；

通过一个或多个处理器、并且基于所述IC芯片设计来生成剂量信息、晶片图像和晶片目标；

通过所述一个或多个处理器基于所述晶片图像和所述晶片目标的比较来修改所述剂量信息；以及

将经修改的所述剂量信息输出到掩模写入设备。

2.根据权利要求1所述的方法，其中生成所述剂量信息包括：将所述IC芯片设计的多边形转换为图像表示。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述剂量信息基于确定所述晶片图像和所述晶片目标不会聚而被修改。

4.根据权利要求1所述的方法，其中修改所述剂量信息包括：

扰动所述剂量信息；

根据经扰动的所述剂量信息生成经扰动的晶片图像；

比较所述经扰动的晶片图像与所述晶片图像；以及

基于所述经扰动的晶片图像与所述晶片图像的所述比较来修改所述剂量信息。

5.根据权利要求1所述的方法，其中修改所述剂量信息包括：

确定所述晶片图像的成本函数的梯度；以及

通过基于所述梯度校正所述晶片图像与所述晶片目标之间的失配来修改所述剂量信息。

6.根据权利要求1所述的方法，还包括：

基于经修改的所述剂量信息来生成经更新的晶片图像，其中经修改的所述剂量信息基于确定所述经更新的晶片图像和所述晶片目标会聚而被输出。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括：

根据所述IC芯片设计生成掩模设计文件；以及

将所述掩模设计文件输出到所述掩模写入设备，并且其中所述掩模写入设备被配置为基于所述掩模设计文件来生成印刷掩模。

8.一种光刻系统，包括：

存储器；以及

处理器，与所述存储器耦合，所述处理器被配置为：

接收集成电路IC芯片设计；

基于所述IC芯片设计来生成剂量信息、晶片图像和晶片目标；

基于所述晶片图像和所述晶片目标的比较来修改所述剂量信息；以及

将经修改的所述剂量信息输出到掩模写入设备。

9.根据权利要求8所述的光刻系统，其中生成所述剂量信息包括：将所述IC芯片设计的多边形转换为图像表示。

10.根据权利要求8所述的光刻系统，其中所述剂量信息基于确定所述晶片图像和所述晶片目标不会聚而被修改。

11.根据权利要求8所述的光刻系统，其中修改所述剂量信息包括：

扰动所述剂量信息；

根据经扰动的所述剂量信息生成经扰动的晶片图像；

比较所述经扰动的晶片图像与所述晶片图像；以及

基于所述经扰动的晶片图像与所述晶片图像的所述比较来修改所述剂量信息。

12.根据权利要求8所述的光刻系统，其中修改所述剂量信息包括：

确定所述晶片图像的成本函数的梯度；以及

通过基于所述梯度校正所述晶片图像与所述晶片目标之间的失配来修改所述剂量信息。

13.根据权利要求8所述的光刻系统，其中所述处理器还被配置为：

基于经修改的所述剂量信息来生成经更新的晶片图像，其中经修改的所述剂量信息基于确定所述经更新的晶片图像和所述晶片目标会聚而被输出。

14.根据权利要求8所述的光刻系统，还包括所述掩模写入设备，其中所述处理器还被配置为：

根据所述IC芯片设计生成掩模设计文件；以及

将所述掩模设计文件输出到所述掩模写入设备，并且其中所述掩模写入设备被配置为基于所述掩模设计文件来生成印刷掩模。