[发明专利]用于掩模合成工具的剂量优化技术

说明书

本公开的实施例涉及用于掩模合成工具的剂量优化技术。一种方法包括：接收集成电路(IC)芯片设计；以及通过一个或多个处理器基于IC芯片设计来生成剂量信息、晶片图像和晶片目标。该方法还包括：通过所述一个或多个处理器基于晶片图像和晶片目标的比较来修改剂量信息。该方法还包括：将经修改的剂量信息输出到掩模写入设备。

技术领域

本公开涉及生成用于光刻制造工艺的剂量信息，并且更具体地基于晶片模拟来生成剂量信息。

背景技术

光刻制造系统根据相关IC芯片设计制造集成电路(IC)芯片。光刻制造系统在制造过程期间使用掩模(光掩模)来控制将光施加到晶片(例如，衬底)上的光刻胶材料层的位置。掩模设置在晶片上方并且光通过掩模施加到晶片。当光穿过掩模内的孔时，光与光刻胶材料相互作用。然后，经由蚀刻或沉积工艺对晶片进行显影和处理，用于IC芯片制造。

掩模写入工艺用于从掩模坯形成掩模。例如，掩模写入器设备向掩模坯施加一个或多个能量射束以显影掩模。在许多情况下，掩模写入设备确定剂量信息以控制IC芯片制造期间使用的曝光能量。

发明内容

在一个示例中，一种方法包括：接收集成电路(IC)芯片设计；以及通过一个或多个处理器基于IC芯片设计来生成剂量信息、晶片图像和晶片目标。该方法还包括：通过一个或多个处理器基于晶片图像和晶片目标的比较来修改剂量信息。该方法还包括：将经修改的剂量信息输出到掩模写入设备。

在一个示例中，一种光刻系统包括存储器，以及与该存储器耦合的处理器。处理器被配置为接收IC芯片设计并且基于IC芯片设计生成剂量信息、晶片图像和晶片目标。处理器还被配置为基于晶片图像和晶片目标的比较来修改剂量信息，并且将经修改的剂量信息输出到掩模写入设备。

在一个示例中，一种包括存储指令的非暂态计算机可读介质，这些指令当被处理器执行时，使得处理器接收IC芯片设计并且基于IC芯片设计来生成剂量信息、晶片图像和晶片目标。还使得处理器基于晶片图像和晶片目标的比较来修改剂量信息并且将经修改的剂量信息输出到掩模写入设备。

附图说明

根据下文所给出的具体实施方式和本公开的实施例的附图，更全面地理解本公开。附图用于提供对本公开的实施例的知识和理解，并且不将本公开的范围限制于这些特定实施例。更进一步地，附图不一定按比例绘制。

图1图示了根据本公开的一些实施例的光刻系统的框图。

图2图示了根据本公开的一些实施例的用于修改剂量信息的方法的流程图。

图3图示了根据本公开的一些实施例的用于修改剂量信息的方法的流程图。

图4图示了根据本公开的一些实施例的剂量信息的各部分。

图5图示了根据本公开的一些实施例的用于输出剂量信息的基于矢量的文件的方法的流程图。

图6图示了根据本公开的一些实施例的用于矢量化剂量信息的方法的流程图。

图7示出了根据本公开的一些实施例的示例剂量分布的一部分。

图8图示了根据本公开的一些实施例的用于矢量化剂量信息的方法的流程图。

图9示出了根据本公开的一些实施例的示例剂量分布的一部分。

图10图示了根据本公开的一些实施例的用于输出剂量信息的基于矢量的文件的方法的流程图。

图11描绘了根据本公开的一些实施例的在集成电路的设计和制造期间使用的各种过程的流程图。

图12描绘了本公开的实施例可以在其中操作的示例计算机系统的抽象图。

具体实施方式

本公开的各方面涉及用于光刻制造系统的剂量信息生成和传达。