[发明专利]适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水在审
| 申请号： | 202110858017.0 | 申请日： | 2021-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN113445052A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 陈敬伦 | 申请（专利权）人： | 南通群安电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14;C23F1/02;H05K3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226001 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 适用于 msap 差异性 蚀刻 药水 | ||
【权利要求书】：
1.一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水，其特征在于，包括
蚀刻选择剂，用于附着在铜面与线路的拐角处，保护底铜；
微蚀速率稳定剂，用于蚀刻速率的稳定；
双氧水稳定剂，用于防止双氧水的裂解；
所述蚀刻选择剂的浓度为10-20g/L；所述的微蚀速率稳定剂的浓度为1-20g/L；所述的双氧水稳定剂的浓度为1-10g/L。
2.根据权利要求1所述的一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水，其特征在于，所述的蚀刻选择剂为含三氮杂环或四氮杂环的物质。
3.根据权利要求1所述的一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水，其特征在于，所述的蚀刻选择剂为具有不饱和结构的物质，不饱和结构为碳碳双键、碳碳三键、环状结构或碳氮双键。
4.根据权利要求2或3所述的一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水，其特征在于，所述的微蚀速率稳定剂包括葡萄糖、苯并三氮唑、咪唑、尿素、六次甲基四胺、甲基-1H-苯并三唑、5-氨基四氮唑、3-氨基-1.2.4-三唑、3-巯基-1.2.3-三唑或噻唑中的一种。
5.根据权利要求2或3所述的一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水，其特征在于，所述的双氧水稳定剂为二乙二醇丁醚、1，4-丁二醇、二乙二醇乙醚、丙二醇、二丙二醇、正丁醇、丙醇、二甘油或乙二醇中的一种。
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