[发明专利]适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水在审
申请号: | 202110858017.0 | 申请日: | 2021-07-28 |
公开(公告)号: | CN113445052A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 陈敬伦 | 申请(专利权)人: | 南通群安电子材料有限公司 |
主分类号: | C23F1/14 | 分类号: | C23F1/14;C23F1/02;H05K3/00 |
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地址: | 226001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适用于 msap 差异性 蚀刻 药水 | ||
本发明涉及一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水,包括蚀刻选择剂,用于附着在铜面与线路的拐角处,保护底铜;微蚀速率稳定剂,用于蚀刻速率的稳定;双氧水稳定剂,用于;本发明的优点是:侧蚀方面:与现有技术相比,侧蚀明显减少,设计底版的时候,可以减小补偿,提高制程能力;铜厚方面:在相同蚀刻量的时候,铜厚减少较少,减少电镀的厚度,节约成本等。
技术领域
本发明涉及一种蚀刻药水,具体涉及一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水,属于印制电路板生产技术领域。
背景技术
现有的MSAP生产工艺,受制程能力和药水的限制,目前最细能够做到25/25um的线路,在设计线路的时候,往往会需要较多的补偿值来弥补蚀刻所造成的侧蚀量,这就限制了其制程能力。如果有一种药水,在蚀刻的过程中,可以减小侧蚀量,就可以减少线路设计的补偿值,从而可以使线路设计的更加精细化;
现有的蚀刻药水还会造成铜厚咬蚀较多,为了弥补这一现象,就需要在电镀过程中镀更厚的铜厚,这也增加了客户的成本以及时间
由于电镀铜晶格较为致密,底铜或化铜晶格较为稀疏,因此,在蚀刻的时候,底铜/化铜往往更易受到攻击,出现undercut现象,当线路设计的很细时,甚至出现飞线,这极大的限制了PCB的制程能力以及降低了可靠性;现有的铜保护剂一般为全面保护剂,在保护底铜/化铜的同时,也保护电镀铜,因此,不能解决上述问题。
削角也是MSAP制程中一个很大的问题,削角的出现与上一步电镀以及该步骤的蚀刻均有一定的关系,但是削角会影响后续的工艺,目前还没有合适的添加剂能够解决该问题。
快速蚀刻药水现状:
① 线路底部被咬蚀:过大的线路底部被咬蚀会导致底部蚀刻较多,随着线路更加精细化,线路底部被咬蚀过大很容易造成线路脱落;
② 侧蚀:侧蚀过大会导致线宽减小,需要设计更多的补偿才能弥补;
③ 铜厚:铜厚损失太大,线路板设计时会需要镀更多的铜厚来弥补这一问题;
④ 削角:削角过大,以及顶部呈现圆弧状,会影响后续制程。
发明内容
为克服现有技术的缺陷,本发明提供一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水,本发明的技术方案是:
一种适用于MSAP制程的差异性蚀刻药水,包括
蚀刻选择剂,用于附着在铜面与线路的拐角处,保护底铜;
微蚀速率稳定剂,用于蚀刻速率的稳定;
双氧水稳定剂,用于防止双氧水的裂解;
所述蚀刻选择剂的浓度为10-20g/L;所述的微蚀速率稳定剂的浓度为1-20g/L;所述的双氧水稳定剂的浓度为1-10g/L。
所述的蚀刻选择剂为含三氮杂环或四氮杂环的物质。
所述的蚀刻选择剂为具有不饱和结构的物质,不饱和结构为碳碳双键、碳碳三键、环状结构或碳氮双键。
所述的微蚀速率稳定剂包括葡萄糖、苯并三氮唑、咪唑、尿素、六次甲基四胺、甲基-1H-苯并三唑、5-氨基四氮唑、3-氨基-1.2.4-三唑、3-巯基-1.2.3-三唑或噻唑中的一种。
所述的双氧水稳定剂为二乙二醇丁醚、1,4-丁二醇、二乙二醇乙醚、丙二醇、二丙二醇、正丁醇、丙醇、二甘油或乙二醇中的一种。
本发明的优点是:
1.侧蚀:与现有技术相比,侧蚀明显减少,客户设计底版的时候,可以减小补偿,提高客户的制程能力
2.铜厚:在相同蚀刻量的时候,铜厚减少较少,减少电镀的厚度,节约成本;
3.削角:无论咬蚀量多少,顶部均没有削角;
4.undercut(线路底部被咬蚀):无论咬蚀量多少,底部均没有线路底部被咬蚀出现,不会导致飞线,提高线路的制程能力和稳定性。
附图说明
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