[发明专利]一种线结构及其制造方法

权利要求书

1.一种线结构，其特征在于，包括基膜层和附着于基膜层之上的收缩层，在收缩层的收缩作用下，收缩层两侧相互靠拢以使基膜层变形并包覆于收缩层之外；线结构的横截面为开口或闭合的弧形结构。

2.根据权利要求1所述的一种线结构，其特征在于，所述线结构的横截面为U形或弧形环。

3.根据权利要求1所述的一种线结构，其特征在于，所述基膜层为炫彩膜、反光膜、夜光膜、镭射膜、刻字膜或阻燃抗菌膜。

4.根据权利要求1所述的一种线结构，其特征在于，所述基膜层为真空蒸镀金属薄膜，包括自下而上依次叠加的薄膜层、着色层和金属层；所述收缩层位于金属层之上。

5.根据权利要求1所述的一种线结构，其特征在于，所述线结构还包括导线或加强线，导线或加强线包覆于收缩层之内并沿收缩层的纵向延伸。

6.根据权利要求5所述的一种线结构，其特征在于，所述基膜层包括自下而上依次叠加的保护层和屏蔽层；所述收缩层位于屏蔽层之上。

7.根据权利要求1-6任一项所述的一种线结构，其特征在于，所述收缩层与基膜层之间设有胶水层。

8.根据权利要求1-6任一项所述的一种线结构，其特征在于，所述收缩层的横向收缩率不低于40％，纵向收缩率不高于5％。

9.如权利要求1-4任一项所述的线结构的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将收缩膜复合于基膜之上，以得到复合膜；

(2)将复合膜切割成目标宽度的细丝；其中，细丝包括基膜层和附着于基膜层之上的收缩层；

(3)对细丝进行热处理，收缩层两侧相互靠拢以使基膜层变形并包覆于收缩层之外。

10.根据权利要求5或6所述的线结构的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将收缩膜复合于基膜之上，以得到复合膜；

(2)将复合膜切割成目标宽度的细丝；其中，细丝包括基膜层和附着于基膜层之上的收缩层；

(3)将导线或加强线贴于细丝的收缩层之上；

(4)对细丝及导线或加强线进行热处理，收缩层两侧相互靠拢以使基膜层变形并包覆于收缩层及导线或加强线之外。