[发明专利]一种适用于厚铜的超精细FPC线路制作工艺在审

专利信息
申请号: 202110858322.X 申请日: 2021-07-28
公开(公告)号: CN113597124A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 姚阿平 申请(专利权)人: 恒赫鼎富(苏州)电子有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215128 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 精细 fpc 线路 制作 工艺
【权利要求书】:

1.一种适用于厚铜的超精细FPC线路制作工艺,其特征在于,包括如下步骤:

S1.准备厚度为25微米的绝缘基材(10);

S2.在绝缘基材(10)上复合厚度大于等于18微米的铜箔(20);

S3.采用激光镭射的方式按照线路图形将铜箔(20)镭射出初级线路(30)并在线距的位置留下3-5微米厚度的底铜(40);

S4.再使用常规半蚀刻工艺全部盲刻,直接将镭射后的半成品过蚀薄铜工艺将线路表面、侧面及底部的厚度为预留底铜(40)厚度的一层铜箔整体咬蚀掉,形成最终线宽线距的线路部分(50)。

2.根据权利要求1所述的一种适用于厚铜的超精细FPC线路制作工艺,其特征在于,步骤S2中,绝缘基材(10)的双面均复合厚度大于等于18微米的铜箔(20)。

3.根据权利要求2所述的一种适用于厚铜的超精细FPC线路制作工艺,其特征在于,步骤S3中,将绝缘基材(10)的双面均采用激光镭射的方式按照线路图形将铜箔(20)镭射出线路图形并在线距的位置留下3-5微米厚度的底铜(40)。

4.根据权利要求3所述的一种适用于厚铜的超精细FPC线路制作工艺,其特征在于,步骤S4中,再使用常规半蚀刻工艺全部盲刻,直接将镭射后的半成品过蚀薄铜工艺将绝缘基材(10)的双面线路表面、侧面及底部的厚度为预留底铜(40)厚度的铜箔整体咬蚀掉,在绝缘基材(10)的双面均形成最终线宽线距的线路部分(50)。

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