[发明专利]一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置有效

专利信息
申请号: 202110863732.3 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN113524001B 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 杨黎;李思佳;郭胜惠;冯曙光;高冀芸;胡途 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/00;B24B41/02;B24B41/06;B24B49/00;C01B32/26
代理公司: 北京东方盛凡知识产权代理有限公司 11562 代理人: 李瑞雨
地址: 650000 云南省昆明市*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 沉积 金刚石 基底 预处理 控制 压力 装置
【权利要求书】:

1.一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置,其特征在于:包括固定机构、升降机构和调压机构;

所述固定机构包括第一立柱(15),所述第一立柱(15)顶部侧壁固接有第一固定块(2),所述第一固定块(2)下方设置有第二固定块(4),所述第二固定块(4)与所述第一立柱(15)滑接;所述第二固定块(4)上固接有若干调平部,若干所述调平部呈周向等距分布;所述第一立柱(15)内固接有第一电机(29),所述第一电机(29)与所述第二固定块(4)传动连接;

所述升降机构包括固接在所述第一立柱(15)顶端的第二立柱(1),所述第二立柱(1)远离所述第一固定块(2)的一侧滑接有移动架(10),所述调压机构固接在所述移动架(10)上;所述移动架(10)上固接有第二电机(16),所述第二电机(16)与所述第二立柱(1)传动连接;

所述调压机构包括固接在所述移动架(10)上的外壳(18),所述外壳(18)竖直设置,所述外壳(18)顶部螺纹套设有端盖(17);所述外壳(18)内滑接有调压部,所述调压部顶端转动连接有第一螺纹杆(9),所述第一螺纹杆(9)顶端贯穿所述端盖(17)并与所述端盖(17)螺纹连接;所述调压部底端固接有第二螺纹杆(20),所述第二螺纹杆(20)底端贯穿所述外壳(18)并与所述外壳(18)滑接;所述第二螺纹杆(20)底部螺纹套设有定位夹具;所述第二螺纹杆(20)外侧设置有环形压力检测组件,所述环形压力检测组件与所述外壳(18)底端外壁固接;

所述调压部包括与所述第一螺纹杆(9)转动连接的第一滑板(33)、与所述第二螺纹杆(20)固接的第二滑板(35)以及位于所述第一滑板(33)和第二滑板(35)之间的弹簧(34);所述弹簧(34)两端分别与所述第一滑板(33)和所述第二滑板(35)固接,且所述第一滑板(33)与所述第二滑板(35)均与所述外壳(18)内壁滑接;

所述定位夹具包括螺纹套设在所述第二螺纹杆(20)上的基片夹具(11),所述基片夹具(11)底端开设有放置槽;所述基片夹具(11)上方设置有定位螺母(12),且所述定位螺母(12)螺纹套设在所述第二螺纹杆(20)上。

2.根据权利要求1所述的一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置,其特征在于:所述调平部包括固接在所述第二固定块(4)底端的缸体(5),所述缸体(5)内滑接有活塞(31),所述活塞(31)顶端固接有活塞杆(22),所述活塞杆(22)顶端贯穿所述第二固定块(4)并固接有调平组件;所述缸体(5)底端固接有进气口(6)和电子气压表(7),所述进气口(6)和所述电子气压表(7)均与所述缸体(5)连通。

3.根据权利要求2所述的一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置,其特征在于:所述调平组件包括与所述活塞杆(22)固接的球座(23),所述球座(23)内铰接有球头(24),所述球头(24)顶端固接有连杆,所述连杆顶端固接有固定板(25)。

4.根据权利要求1所述的一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置,其特征在于:所述第二立柱(1)远离所述第二电机(16)的一侧固接有显示控制组件(8),所述第一电机(29)、所述第二电机(16)、所述调平部和所述调压机构均与所述显示控制组件(8)电性连接。

5.根据权利要求1所述的一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置,其特征在于:所述第一立柱(15)为中空结构,所述第一立柱(15)底部内壁固接有隔板,所述隔板顶端转动连接有丝杠(28),所述丝杠(28)末端与所述第一立柱(15)顶端内壁固接;所述第一电机(29)固接在所述第一立柱(15)底端内壁,所述第一电机(29)的输出轴贯穿所述隔板与所述丝杠(28)底端轴接;所述丝杠(28)上螺纹套设有滑块(30),所述滑块(30)贯穿所述第一立柱(15)并与所述第二固定块(4)固接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110863732.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top