[发明专利]一种晶体制备装置

说明书

本说明书涉及一种晶体制备装置。该装置包括：炉膛；温场，所述温场至少部分位于所述炉膛内，所述温场与真空装置密封连接；提拉杆，所述提拉杆的至少一部分位于所述温场内；以及运动装置，所述运动装置与所述提拉杆传动连接以带动所述提拉杆上下运动和/或旋转。

分案说明

本申请是针对申请日为2020年6月24日、申请号为202010585048.9的中国申请提出的分案申请。

优先权声明

本申请要求2019年8月21日提交的国际申请PCT/CN2019/101698和2019年8月21日提交的中国申请201910772691.X的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本申请涉及受激发射器件技术领域，特别涉及一种用于制备受激发射器件中的晶体的晶体制备装置。

背景技术

受激发射器件是一种受外界条件(例如，γ射线、X射线)激发以使电子发生能态跃迁，从而发射光的器件。随着科技的发展，受激发射器件广泛应用于工业、医疗、科研、通讯、军事等领域。受激发射器件中通常需要使用各种晶体材料(例如，闪烁晶体、激光晶体)。为了保证所制备的晶体的质量从而提高受激发射器件的性能，晶体制备装置需满足相对严格的要求，例如，密闭、真空等。然而，常见的晶体制备装置结构复杂且真空环境控制难度较大，不利于晶体的稳定生长。因此，有必要提供一种晶体制备装置，可以满足真空度要求，从而制备高质量的晶体。

发明内容

本说明书实施例之一提供一种晶体制备装置。该晶体制备装置包括炉膛；温场，所述温场至少部分位于所述炉膛内，所述温场与真空装置密封连接；提拉杆，所述提拉杆的至少一部分位于所述温场内；以及运动装置，所述运动装置与所述提拉杆传动连接以带动所述提拉杆上下运动和/或旋转。

在一些实施例中，所述温场的一部分位于所述炉膛内，所述温场的另一部分位于所述炉膛外。

在一些实施例中，所述炉膛包括炉盖，所述炉盖上设置第一通孔，所述温场通过所述第一通孔置于所述炉膛内。

在一些实施例中，所述炉膛为非密闭结构。

在一些实施例中，所述温场包括顶部开口；所述顶部开口与顶部密封件密封连接，其中，所述顶部密封件包括第二通孔，所述温场通过所述第二通孔与所述真空装置密封连接。

在一些实施例中，所述温场包括底部开口；所述底部开口与底部密封件密封连接。

在一些实施例中，所述顶部密封件或所述底部密封件为冷却密封件，所述冷却密封件中通入冷却介质进行冷却。

在一些实施例中，所述晶体制备装置还包括密封套管，以使所述提拉杆处于密闭环境，其中，所述密封套管的一端与所述温场顶部密封连接。

在一些实施例中，所述密封套管的另一端与所述运动装置的滑块密封连接。

在一些实施例中，所述温场包括：第一筒；第二筒，所述第二筒设置于所述第一筒内部；填充体，所述填充体填充于所述第二筒内部和/或所述第二筒与所述第一筒之间的空隙中。

附图说明

本申请将以示例性实施例的方式进一步说明，这些示例性实施例将通过附图进行详细描述。这些实施例并非限制性的，在这些实施例中，相同的编号表示相同的结构，其中：

图1是根据本申请一些实施例所示的示例性晶体制备装置的结构示意图；

图2是根据本申请一些实施例所示的示例性晶体制备装置的右视图；

图3是根据本申请一些实施例所示的示例性晶体制备装置的剖视图；

图4是根据本申请一些实施例所示的示例性炉膛的截面示意图；