[发明专利]三氯氢硅除碳反应-选择性吸附耦合装置及方法有效
申请号: | 202110876164.0 | 申请日: | 2021-07-30 |
公开(公告)号: | CN113479892B | 公开(公告)日: | 2023-09-26 |
发明(设计)人: | 黄国强;黄琪琪;王乃治;刘建华;耿强 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C01B33/107 | 分类号: | C01B33/107 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300350 天津市津南区海*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 三氯氢硅 反应 选择性 吸附 耦合 装置 方法 | ||
1.一种三氯氢硅除碳反应-选择性吸附耦合方法,其特征是,三氯氢硅、甲基二氯硅烷和氯源由三氯氢硅-甲基二氯硅烷-氯源原料罐通过进料泵,经三氯氢硅-甲基二氯硅烷-氯源预热器后于底部进入甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔,甲基二氯硅烷和氯源在甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔内发生反应,转化为甲基三氯硅烷高沸点的物质,甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔内的吸附剂选择性不吸附甲基三氯硅烷,吸附塔内催化反应和选择性吸附同时进行;甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔顶部出料部分作为甲基三氯硅烷产品,进入甲基三氯硅烷产品罐,再由甲基三氯硅烷产品泵采出;甲基三氯硅烷不断采出使得甲基二氯硅烷不断反应,最终达到除碳的目的;氯源经氯源进料泵于顶部进入甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔,进行解吸过程;甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔塔底排除解吸液。
2.如权利要求1所述的方法,其特征是,甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔内填充的具有催化作用的吸附剂采用树脂、硅铝凝胶或改性活性炭。
3.如权利要求1所述的方法,其特征是,氯源采用四氯化硅、氯化氢、四氯化碳,或上述物质的混合物。
4.如权利要求1所述的方法,其特征是,甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔塔压范围为0.1~1.5MPa(G),反应吸附塔控制温度范围为60~160℃。
5.如权利要求3所述的方法,其特征是,甲基二氯硅烷、甲基三氯硅烷、三氯氢硅和氯源的吸附过程采用气相或液相。
6.如权利要求1所述的方法,其特征是,甲基二氯硅烷-氯源反应吸附塔双塔并联使用,具有集成吸附剂、催化剂在一起的功能。
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