[发明专利]一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺

权利要求书

1.一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺，其特征在于，包括挤塑线、UV线和开槽线，其中：

一、挤塑线；

将包括聚氯乙烯、钙粉、加工助剂在内的原材料用加温挤塑T型模具挤塑成石晶墙/地砖；然后用五辊压延机使其表面光洁平滑；再在传输轨道上冷却定型；

二、UV线；

将冷却定型的石晶墙/地砖用辊涂加淋涂混合方式使石晶墙/地砖的表面光泽度达到90度以上，然后再用膜压机在其表面附一层高光膜并整平，成为高光釉面石晶墙/地砖；其中，辊涂包括两个工艺参数不同的第一辊涂和第二辊涂；

三、开槽线；

将做好的高光釉面石晶墙/地砖的四边开槽，方便安装。

2.根据权利要求1所述的一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺，其特征在于，所述挤塑线中涉及的聚氯乙烯为SG-5型，钙粉为325-400目。

3.根据权利要求1所述的一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺，其特征在于，所述挤塑线中涉及的工艺参数如下：

塑化温度 185-195℃；

塑化时间 35-55s；

定型压力 5MPa；

冷却定型时间 100-150s；

板子成型尺寸 915*970*5.0mm。

4.根据权利要求1所述的一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺，其特征在于，所述UV线中涉及的工艺参数如下：

第一辊涂 附着力底涂抹量：8-10g/m²，固化度：65-75%；

第二辊涂 普通底涂抹量：7-10g/m²，固化度：70-85%；

淋涂 UV涂料抹量：70-90g/m²，固化度：100%。

5.根据权利要求1所述的一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺，其特征在于，所述开槽线中涉及的工艺参数如下：

开槽速度 35-55m/min；

成品规格： 900*300*5.0mm；

高光釉面亮度 ≥90度。