[发明专利]一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺在审

专利信息
申请号: 202110881727.5 申请日: 2021-08-02
公开(公告)号: CN113665081A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 徐介胜;吴晴 申请(专利权)人: 江苏波登新材料科技有限公司
主分类号: B29C48/00 分类号: B29C48/00;B29C48/07;B29L31/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226600 江苏省南通*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 釉面 石晶墙 地砖 生产工艺
【说明书】:

发明公开一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺,不使用传统的PVC耐磨层,而是通过压延和表面淋涂的方式,使色彩和质感更加饱满,光泽度达到90度以上,采用的技术方案为:将包括聚氯乙烯、钙粉、加工助剂在内的原材料用加温挤塑T型模具挤塑成石晶墙/地砖;然后用五辊压延机使其表面光洁平滑;再在传输轨道上冷却定型;将冷却定型的石晶墙/地砖用辊涂加淋涂混合方式使石晶墙/地砖的表面光泽度达到90度以上,然后再用膜压机在其表面附一层高光膜并整平,成为高光釉面石晶墙/地砖;其中,辊涂包括两个工艺参数不同的第一辊涂和第二辊涂;将做好的高光釉面石晶墙/地砖的四边开槽,方便安装。

技术领域

本发明一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺,属于石晶墙砖、地砖表面处理技术领域。

背景技术

现如今国家大力提倡新型环保型建筑材料,而高光釉面石晶墙砖、地砖具有薄和轻,价格便宜,环保无污染,可回收再生利用等优点,可以用来替代瓷砖、大理石等不可再生的表面高光的传统建材。

但是常规的石晶板只能表面贴合PVC彩膜和耐磨层,产品表面光泽度低,色彩暗,产品没有档次。

发明内容

本发明克服了现有技术存在的不足,提供了一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺,不使用传统的PVC耐磨层,而是通过压延和表面淋涂的方式,使色彩和质感更加饱满,光泽度达到90度以上。

为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺,包括挤塑线、UV线和开槽线,其中:

一、挤塑线;

将包括聚氯乙烯、钙粉、加工助剂在内的原材料用加温挤塑T型模具挤塑成石晶墙/地砖;然后用五辊压延机使其表面光洁平滑;再在传输轨道上冷却定型;

二、UV线;

将冷却定型的石晶墙/地砖用辊涂加淋涂混合方式使石晶墙/地砖的表面光泽度达到90度以上,然后再用膜压机在其表面附一层高光膜并整平,成为高光釉面石晶墙/地砖;其中,辊涂包括两个工艺参数不同的第一辊涂和第二辊涂;

三、开槽线;

将做好的高光釉面石晶墙/地砖的四边开槽,方便安装。

所述挤塑线中涉及的聚氯乙烯为SG-5型,钙粉为325-400目。

所述挤塑线中涉及的工艺参数如下:

塑化温度 185-195℃;

塑化时间 35-55s;

定型压力 5MPa;

冷却定型时间 100-150s;

板子成型尺寸 915*970*5.0mm。

所述UV线中涉及的工艺参数如下:

第一辊涂 附着力底涂抹量:8-10g/m2,固化度:65-75%;

第二辊涂 普通底涂抹量:7-10g/m2,固化度:70-85%;

淋涂 UV涂料抹量:70-90g/m2,固化度:100%。

所述开槽线中涉及的工艺参数如下:

开槽速度 35-55m/min;

成品规格: 900*300*5.0mm;

高光釉面亮度 ≥90度。

本发明与现有技术相比具有的有益效果是:本发明涉及的高光釉面石晶墙砖、地砖表面光泽度达90度以上,具有薄和轻,价格便宜,环保无污染,可回收再生利用等优点。可以用来替代瓷砖、大理石等不可再生的表面高光的传统建材,而且省去了传统石晶板表面常用的PVC耐磨层,能降低制造成本。

附图说明

下面结合附图对本发明做进一步的说明。

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