[发明专利]晶圆上料装置及晶圆贴膜装置有效
申请号: | 202110884710.5 | 申请日: | 2021-08-03 |
公开(公告)号: | CN113327878B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 谢红星;李蛇宏;朱道奇 | 申请(专利权)人: | 四川明泰微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 成都诚中致达专利代理有限公司 51280 | 代理人: | 曹宇杰 |
地址: | 641199 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆上料 装置 晶圆贴膜 | ||
一种晶圆上料装置及晶圆贴膜装置,晶圆上料装置包括:抓取机构,包括第一竖向气缸、设于第一竖向气缸活动端的气动吸盘、折形架,第一竖向气缸固定端连接于折形架一端,折形架另一端连接有转动轴,转动轴连接转动电机输出轴,并转动配合于一对支板,支板和转动电机设于一滑座上,滑座设在第一直线机构上;转接机构,包括设于抓取机构上方的第二直线机构、设于第二直线机构活动端的间距调节机构、连接间距调节机构的一对第二竖向气缸、连接于第二竖向气缸活动端的转接架;承载机构,包括通过支撑柱设于基座的承载台,用于承载晶圆。晶圆贴膜装置包括晶圆上料装置、贴膜组件等。实现晶圆自动上料、自动贴膜,降低人工强度,实现自动化作业,效率高。
技术领域
本发明涉及集成电路封装技术,具体涉及一种晶圆上料装置及晶圆贴膜装置。
背景技术
在集成电路封装中,需要从晶圆中拾取晶圆芯片以进行上芯。一般的,需要对入厂的晶圆进行预处理,比如贴膜、减薄、划片,然后再送入到上芯工序。晶圆出厂时,其一面一般自带有保护膜,贴膜是对其另一面进行贴膜,一方面用于进行保护晶圆,另一方面便于在保护膜撕去后,仍然能够将芯片附着在一起,便于进行减薄,以及减薄后的划片等。目前,在进行贴膜时,由于都是晶圆具有保护膜一面与承载台接触,以方便对另一面进行贴膜,而若要利用抓取机构来进行晶圆向承载台的上料,并不方便直接作用于不具有保护膜的一面,因此,厂区内多采用多是通过人工进行晶圆拾取,然后进行上料至贴膜机的承载台,然后在承载台送入到覆膜机处进行贴膜,然后再通过手动转动切刀进行圆形区域的贴膜切除,并利用手动来回推送切刀进行贴膜切断,这种方式较为费时耗力,有必要改进。
发明内容
针对上述相关现有技术不足,本发明提供一种晶圆上料装置及晶圆贴膜装置,能实现待贴膜晶圆的自动上料,并且自动进行贴膜,降低人工作业强度,实现自动化作业,效率高。
为了实现本发明的目的,拟采用以下方案:
一种晶圆上料装置,包括:
抓取机构,包括第一竖向气缸、设于第一竖向气缸活动端的气动吸盘、折形架,第一竖向气缸固定端连接于折形架一端,折形架另一端连接有转动轴,转动轴连接转动电机输出轴,并转动配合于一对支板,支板和转动电机设于一滑座上,滑座设在第一直线机构上;
转接机构,包括跨设于抓取机构上方的第二直线机构、设于第二直线机构活动端的间距调节机构、连接间距调节机构的一对第二竖向气缸、连接于第二竖向气缸活动端的转接架,第二直线机构行程方向与第一直线机构行程方向垂直,间距调节机构用于调节一对第二竖向气缸的间距,转接架包括水平设置的U型板以及设于U型板上的弧形限位条,U型板连接第二竖向气缸活动端;
承载机构,包括通过支撑柱设于基座的承载台,用于承载待贴膜的晶圆,承载台上设有贯通承载台顶面和底面的配合槽,配合槽位于承载台两侧,每侧具有一对配合槽,配合槽长度方向外侧端贯通承载台周侧壁,同一侧的一对配合槽间距和宽度与U型板匹配。
进一步,配合槽包括第一槽以及位于第一槽下方且与第一槽连通的第二槽,第二槽宽度大于第一槽宽度,第一槽的最小宽度设置为以U型板的两个分支能竖向通过为准,配合槽内设有支撑块,支撑块包括与第二槽宽度匹配的下块、形成于下块顶面的上块,上块宽度与第一槽的宽度匹配,上块的高度与第一槽的深度匹配,承载台底部连接有支撑柱,下块底部连接升降机构。
进一步,升降机构包括设于基座上的第三竖向气缸,第三竖向气缸竖向朝上设在,其活动端连接有连接架,下块通过连接柱连接连接架,支撑柱有多个,连接架至少穿过两个支撑柱设置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造