[发明专利]显示装置制造装置以及显示装置制造方法在审
申请号: | 202110894820.X | 申请日: | 2021-08-05 |
公开(公告)号: | CN114078735A | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | 金承完;金成镇;郑景烈;魏镇国;朴栽洪;崔硬旭;韩东垣 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L51/56;B23K26/362 |
代理公司: | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人: | 李英艳;玉昌峰 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 装置 以及 方法 | ||
1.一种显示装置制造装置,其中,包括:
真空腔室;
负压形成部,向所述真空腔室提供负压;
静电吸盘,配置在所述真空腔室内;
静电吸盘移动部,沿第一方向移动所述静电吸盘;以及
气体喷射部,向所述真空腔室内部喷射惰性气体。
2.根据权利要求1所述的显示装置制造装置,其中,
所述气体喷射部朝向所述静电吸盘的沿所述第一方向延伸的侧面以及沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的侧面中的至少一个喷射气体。
3.根据权利要求1所述的显示装置制造装置,其中,
所述气体喷射部配置在所述真空腔室的内侧壁。
4.根据权利要求1所述的显示装置制造装置,其中,
所述气体喷射部配置在所述静电吸盘,并随着所述静电吸盘的移动而移动。
5.根据权利要求2所述的显示装置制造装置,其中,
在所述静电吸盘的一面配置对象基板,所述气体喷射部向所述静电吸盘的侧面和所述对象基板的侧面的分界部分喷射气体。
6.根据权利要求1所述的显示装置制造装置,其中,
所述显示装置制造装置还包括:
气体供应部,向所述气体喷射部供应气体;
第一气体供应流路,连接所述气体喷射部和所述气体供应部;以及
两个以上控制阀,配置在所述第一气体供应流路中。
7.根据权利要求1所述的显示装置制造装置,其中,
所述显示装置制造装置还包括:
激光刻蚀机,向所述真空腔室的内部照射激光,
所述激光刻蚀机配置在所述真空腔室之下并朝向所述静电吸盘的下面,以与所述静电吸盘的下面形成倾斜的方式照射所述激光。
8.根据权利要求1所述的显示装置制造装置,其中,
所述显示装置制造装置还包括:
激光刻蚀机,向所述真空腔室的内部照射激光,
所述静电吸盘包括:激光贯通孔,所述激光刻蚀机的激光贯通所述激光贯通孔,
所述激光刻蚀机配置在所述真空腔室之上并贯通所述激光贯通孔向所述静电吸盘的下面垂直地照射所述激光。
9.根据权利要求1所述的显示装置制造装置,其中,
所述显示装置制造装置还包括:
激光刻蚀机,向所述真空腔室的内部照射激光;
移动玻璃,在所述真空腔室内配置成与所述激光刻蚀机在高度方向上重叠;以及
玻璃移动部,沿所述第一方向移动所述移动玻璃。
10.一种显示装置制造方法,其中,包括:
在设置于真空腔室内的静电吸盘的下面上吸附对象基板的步骤;
通过向所述对象基板的包括发光元件的至少一个层照射激光来形成孔的步骤;
向所述静电吸盘以及所述对象基板喷射氮气的步骤;以及
从所述静电吸盘解除对所述对象基板的吸附的步骤。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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