[发明专利]能够降低头部电阻率的重掺As硅单晶生产方法有效
申请号: | 202110897832.8 | 申请日: | 2021-08-05 |
公开(公告)号: | CN113584585B | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
发明(设计)人: | 张兴茂;闫龙;王忠保;李小红;伊冉 | 申请(专利权)人: | 宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司 |
主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B15/20;C30B15/04 |
代理公司: | 宁夏三源鑫知识产权代理事务所(普通合伙) 64105 | 代理人: | 孙彦虎 |
地址: | 750000 宁夏回族自*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 能够 降低 头部 电阻率 as 硅单晶 生产 方法 | ||
1.一种能够降低头部电阻率的重掺As硅单晶生产方法,用于以2408SR单晶炉为生产装置,采用直拉法生产8吋重掺As硅单晶,其特征在于,包括依次进行的等径前工序、一段等径工序、二段等径工序及收尾工序;
其中,等径前工序中,调节氩气流量为120slm-130slm,并保持该氩气流量至二段等径工序结束;并且,等径前工序中,调节单晶炉炉压为12 kPa-15 kPa;一段等径工序中,将单晶炉炉压逐渐升高至18 kPa-20 kPa;二段等径工序中,维持单晶炉炉压为18 kPa-20 kPa。
2.如权利要求1所述的能够降低头部电阻率的重掺As硅单晶生产方法,其特征在于,所述等径前工序包括依次进行的稳定工序、引晶工序、放肩工序、转肩工序。
3.如权利要求1所述的能够降低头部电阻率的重掺As硅单晶生产方法,其特征在于,所述一段等径工序中,等径长度为200mm-500mm。
4.如权利要求3所述的能够降低头部电阻率的重掺As硅单晶生产方法,其特征在于,所述一段等径工序中,等径长度为300±10mm。
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