[发明专利]一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法

权利要求书

1.一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法，其特征在于：所述合成方法包括以下步骤：

1）将100份对苯二甲酸、130份乙二醇和0.001-0.002份醋酸钠配制成浆料，然后转移至酯化反应釜中进行酯化反应，然后加入0.02-0.05份乙醇锑和对甲苯磺酸的复合催化剂、10-20份第三单体依次进行预缩聚反应和终缩聚反应，在终缩聚反应阶段加入0.001-0.002份磷酸三甲酯，

2）终缩聚结束降温过程中加入光固化单体和光引发剂，最后将终聚物卸到冷却池，切片得到聚酯母料，待温度降低到光固化单体和光引发剂的熔点以下时加入；

所述光固化单体选用双酚A环氧丙烯酸酯、酚醛环氧丙烯酸酯、改性环氧丙烯酸酯、环氧化油丙烯酸酯、甲基丙烯酸-β-羟乙酯中的一种或几种；

所述光引发剂选用安息香双甲醚，添加量为单体质量的2-5%；

所述复合催化剂乙醇锑、对甲苯磺酸的质量比为1.5-1.8:1；

所述第三单体选用邻苯二甲酸和间苯二甲酸的混合物，其摩尔比为1:1。

2.根据权利要求1所述的一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法，其特征在于：所述预缩聚的反应温度为245-265℃，反应压力为1100-1200Pa，预缩聚时间为30-40min。

3.根据权利要求1所述的一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法，其特征在于：所述终缩聚反应的真空度低于110-120Pa，温度为270-285℃，搅拌速度随粘度增加逐渐降低，当特性粘度达到0.608dL/g时停止反应。