[发明专利]改善对位偏孔的方法在审

专利信息
申请号: 202110901334.6 申请日: 2021-08-06
公开(公告)号: CN113811082A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 关俊轩;刘勇;许杏芳 申请(专利权)人: 安捷利美维电子(厦门)有限责任公司;广州美维电子有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 王忠浩
地址: 361026 福建省厦门市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 改善 对位 方法
【说明书】:

发明公开了一种改善对位偏孔的方法,选取待加工板件的孔位坐标,并标识处理;检测需要加工的孔位尺寸,选取钻孔规格为D2的钻头进行加工;选取钻孔规格为D1的钻头加工一次加工板件;将二次加工板件沉铜电镀处理;将电镀板件进行贴膜、对位曝光显影,蚀刻褪膜在PCB板上露出所需图形。采用多个规格的钻头连续加工的方式,进行对位孔的连续加工,由于钻小孔时钻机的钻头所需的扭矩较小,对孔壁影响度较低,同时小孔钻孔有利于散热,避免材料的溶解,最后才使用与对位孔径相同的钻刀钻出对位孔,这样就可以降低钻机所需的扭矩,减少震动,同时也大大降低热量,从而确保钻出良好的孔型,最终也保证了后续的曝光对位,从而避免了偏孔问题。

技术领域

本发明涉及PCB制造领域,尤其涉及一种改善对位偏孔的方法。

背景技术

目前,随着电子类产品不断升级,PCB制程持续往精细化发展。小面积多功能的产品对生产工艺提出更高的要求。PCB在制作小面积多功能产品的要求下,盲孔数量不断的增加,同时盲孔孔径也随之缩小,层间的曝光对位显得特别重要,若出现对位不准将影响层间的信号传递,最终影响产品的功能可靠性。

但是,现有的PCB制造存在以下缺陷:

请参阅附图2,市面上的PCB制造工艺在进行对位孔扫描时,若对位孔出现变形,则镭射扫描设备成像后,对位孔中心点与成像中心点垂直方向不一致,最终导致对位偏孔,请具体参阅附图3,蚀刻褪膜之后,因对位不准确,导致PAD孔环无法完全覆盖盲孔。

发明内容

为了克服现有技术的不足,本发明的目的之一在于提供一种改善对位偏孔的方法,其能解决对位孔对位不准确的问题。

本发明的目的之一采用如下技术方案实现:

一种改善对位偏孔的方法,包括以下步骤:

孔位选取步骤:选取待加工板件的孔位坐标,并标识处理;

一次加工步骤:检测需要加工的孔位尺寸,标识为D1,选取钻孔规格为D2的钻头进行加工,使D1大于D2,生成一次加工板件;

二次加工步骤:选取钻孔规格为D1的钻头加工一次加工板件,生成二次加工板件;

沉铜电镀步骤:将二次加工板件沉铜电镀处理,生成电镀板件;

对位步骤:将电镀板件进行贴膜、对位曝光显影,蚀刻褪膜在PCB板上露出所需图形。

进一步地,在所述孔位选取步骤中,检测标识处理的孔位坐标是否正确,若是,进行下一步,若否,重新选取并标识处理。

进一步地,在所述一次加工步骤中,使D2=0.6D1-0.9D1。

进一步地,在所述一次加工步骤中,使D2=0.8D1。

进一步地,在所述一次加工步骤中,检测一次加工板件的孔位坐标是否满足要求,若是,进行下一步,若否,返工或报废处理。

进一步地,在所述一次加工步骤中,在规格为D2的钻头进行加工之前,检查坐标是否正确。

进一步地,在所述一次加工步骤中,在规格为D2的钻头进行加工完成之后,选取规格为D3的钻头加工相应孔位,使D1>D3>D2。

进一步地,在所述一次加工步骤中,在规格为D3的钻头进行加工完成之后,选取规格为D4的钻头加工相应孔位,使D1>D4>D3>D2。

进一步地,在所述二次加工步骤中,沿一次加工步骤的钻孔的轴心线加工一次加工板件。

进一步地,在所述二次加工步骤中,检验二次加工板件的对位孔的质量是否满足要求,若是,进行下一步,若否,返工或报废处理。

相比现有技术,本发明的有益效果在于:

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