[发明专利]显示面板、其制作方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 202110902456.7 申请日: 2021-08-06
公开(公告)号: CN113611812A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 屈财玉;郝艳军;樊宜冰;刘浩;李栋;张慧娟;刘政 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;王存霞
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

衬底,包括多个发光区和包围发光区的暗区;

阳极层,位于所述衬底的一侧且包括多个位于所述发光区的阳极单元;

像素定义层,位于所述阳极层远离所述衬底的一侧且设置有多个贯穿所述像素定义层的像素开口,所述像素开口在衬底上的正投影位于所述阳极单元在所述衬底上的正投影内;

有机发光层,包括多个有机发光单元,每个所述有机发光单元位于一个所述像素开口内;

阴极层,覆盖多个所述像素开口和多个所述有机发光单元;

辅助阴极,位于所述阴极层远离所述衬底的一侧且在所述衬底上的正投影位于所述暗区;

图案化覆盖层,位于所述阴极层远离所述衬底的一侧且包括多个覆盖单元,每个所述发光单元在所述衬底上的正投影位于一个所述覆盖单元在所述衬底上的正投影内,且不同颜色的有机发光单元对应的所述覆盖单元的厚度不同。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述有机发光单元包括红色发光单元、绿色发光单元和蓝色发光单元;

所述覆盖单元包括位于所述红色发光单元上的第一覆盖单元、位于所述绿色发光单元上的第二覆盖单元以及位于所述蓝色发光单元上的第三覆盖单元;

所述第一覆盖单元的厚度大于所述第二覆盖单元的厚度,所述第二覆盖单元的厚度大于所述第三覆盖单元的厚度。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,

所述第一覆盖单元的厚度

所述第二覆盖单元的厚度

所述第三覆盖单元的厚度

4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述图案化覆盖层包括公共覆盖层、位于所述公共覆盖层上的第一覆盖层和第二覆盖层;

所述公共覆盖层覆盖阴极层和辅助阴极,且所述公共覆盖层中位于所述蓝色发光单元的部分为第三覆盖单元,

所述第一覆盖层包括多个第一子单元,所述第一子单元在所述衬底上的正投影覆盖所述红色发光单元在衬底上的正投影,所述第一覆盖单元包括位于所述红色发光单元上的部分所述公共覆盖层和所述第一子单元;

所述第二覆盖层包括多个第二子单元,所述第二子单元在所述衬底上的正投影覆盖所述绿色发光单元在所述衬底上的正投影,所述第二覆盖单元包括位于所述绿色发光单元上的部分所述公共覆盖层和所述第二子单元。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阴极层的材料包括镁、银、铝中的一种或其合金,所述阴极层的厚度为5nm~20nm。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述辅助阴极的材料包括镁、银、铝中的一种或其合金,所述辅助阴极的厚度为1nm~500nm。

7.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-6中任一项所述的显示面板。

8.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一衬底,所述衬底包括多个发光区和包围发光区的暗区;

在所述衬底的一侧形成阳极层,并对所述阳极层进行图形化处理获得多个位于所述发光区的阳极单元;

在所述阳极层上形成像素定义层,并对所述像素定义层进行图形化处理以形成多个贯穿所述像素定义层的像素开口,所述像素开口在所述衬底上的正投影位于所述阳极单元在所述衬底上的正投影内;

形成有机发光层,所述有机发光层包括多个有机发光单元,每个有机发光单元位于一个所述像素开口内;

形成阴极层,所述阴极层覆盖多个所述像素开口和多个所述有机发光单元;

在所述阴极层上形成辅助阴极,辅助阴极在衬底上的正投影位于暗区;

形成图案化覆盖层,位于所述阴极层远离所述衬底的一侧且包括多个覆盖单元,每个所述发光单元在所述衬底上的正投影位于一个所述覆盖单元在所述衬底上的正投影内,且不同颜色的有机发光单元对应的所述覆盖单元的厚度不同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110902456.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top