[发明专利]一种真空渗铬用容器、系统及方法

权利要求书

1.一种真空渗铬用容器，包括用于盛装渗铬剂以及零件(8)的真空箱(2)，所述真空箱(2)包括箱体及箱盖，所述真空箱(2)上还设置有用于对其内部进行抽真空的气路，其特征在于，所述箱盖包括第一密封盖(9)及第二密封盖(10)；

所述第一密封盖(9)可拆卸连接于所述箱体的开口端；

所述第二密封盖(10)设置在箱体的内侧，第二密封盖(10)通过锥面支撑于箱体内；

所述锥面为沿着箱体周向方向延伸的环状，第二密封盖(10)作为箱体内的分层隔板；

锥面靠近第一密封盖(9)一侧的尺寸大于另一侧的尺寸；

第一密封盖(9)与第二密封盖(10)之间形成腔隙，所述气路的入口端与所述腔隙对接。

2.根据权利要求1所述的一种真空渗铬用容器，其特征在于，所述第一密封盖(9)通过连接法兰与箱体相连；

所述第二密封盖(10)的顶面上还设置有吊耳。

3.根据权利要求1所述的一种真空渗铬用容器，其特征在于，所述第二密封盖(10)外壁上设置有锥形段和/或箱体内壁上设置有锥形段；

所述锥面由所述锥形段提供；

锥面支撑关系通过第二密封盖(10)与箱体直接接触实现。

4.根据权利要求3所述的一种真空渗铬用容器，其特征在于，所述第二密封盖(10)以及箱体上均设置有锥形段；

两锥形段的尺寸一致。

5.根据权利要求4所述的一种真空渗铬用容器，其特征在于，所述锥形段呈圆锥台状。

6.根据权利要求5所述的一种真空渗铬用容器，其特征在于，所述锥形段的锥度为5°至10°。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的一种真空渗铬用容器，其特征在于，所述气路的入口端设置在第一密封盖(9)上，且所述气路对穿第一密封盖(9)的两端面。

8.一种真空渗铬用系统，其特征在于，包括如权利要求1至7中任意一项所述的容器。

9.根据权利要求8所述的一种真空渗铬用系统，其特征在于，还包括用于对所述真空箱(2)进行加热的热处理炉(1)；

还包括测温点位于所述真空箱(2)内且位于第二密封盖(10)与箱体底部之间的测温组件(5)；

所述真空箱(2)的材质为铬质量分数大于或等于16％的奥氏体型不锈钢。

10.一种真空渗铬方法，所述方法为：

S1、完成零件(8)在真空箱内的安装以及渗铬剂的填埋；

S2、对真空箱(2)进行抽真空处理后进行渗铬，在渗铬过程中对渗铬环境压力进行维持；

其特征在于，该方法基于权利要求1至7中任意一项所述的容器进行；

在步骤S1中，所述零件(8)的安装位置位于第二密封盖(10)与箱体的底部之间；

在步骤S2中，所述抽真空处理以及对渗铬环境压力进行维持均为：通过连接在所述气路上的负压产生设备对所述腔隙进行抽真空处理；

在所述腔隙压力下降过程中，第二密封盖(10)与箱体底部之间的气体经过位于锥面配合位置的间隙进入到所述腔隙中，获得零件(8)所需的渗铬压力环境。