[发明专利]晶圆保持件及研磨机在审
申请号: | 202110911273.1 | 申请日: | 2021-08-09 |
公开(公告)号: | CN113524027A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 崔凯;田国军 | 申请(专利权)人: | 北京烁科精微电子装备有限公司 |
主分类号: | B24B37/30 | 分类号: | B24B37/30;B24B37/32;B24B37/10;B24B37/34 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 胡晓静 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保持 研磨机 | ||
1.一种晶圆保持件,用于套住晶圆,其特征在于,所述晶圆保持件包括:
支撑圈,具有相对的第一表面和第二表面,所述支撑圈的第一表面用于在研磨晶圆时与研磨头连接;和
固定环,设于所述支撑圈的第二表面上,所述固定环内周壁设有倒角,所述倒角设于所述固定环背对所述支撑圈的一侧,所述固定环的内侧形成有用于固定晶圆的固定位,所述固定环的表面用于在研磨晶圆时与研磨垫接触。
2.如权利要求1所述的晶圆保持件,其特征在于,所述倒角的宽度大于0.01mm。
3.如权利要求1所述的晶圆保持件,其特征在于,所述倒角的高度大于0.1mm。
4.如权利要求1所述的晶圆保持件,其特征在于,所述倒角为直角倒角、圆角倒角或不规则倒角。
5.如权利要求4所述的晶圆保持件,其特征在于,所述倒角为一次倒角、两次倒角或多次倒角。
6.如权利要求1所述的晶圆保持件,其特征在于,所述固定环上设有多个间隔设置的导流槽,以用于在研磨过程中将研磨液和水引流至所述晶圆,和将研磨废弃物引导排出。
7.如权利要求6所述的晶圆保持件,其特征在于,多个所述导流槽周向间隔均匀地分布于所述固定环上。
8.如权利要求1所述的晶圆保持件,其特征在于,所述固定环的材质为PPS或PP。
9.如权利要求1所述的晶圆保持件,其特征在于,所述固定环的内径为200mm或300mm。
10.如权利要求1所述的晶圆保持件,其特征在于,所述支撑圈的材质为不锈钢。
11.如权利要求1所述的晶圆保持件,其特征在于,所述固定环上设有分压槽,以用于在研磨晶圆时减小所述固定环与研磨垫之间的相互作用力。
12.一种研磨机,其特征在于,包括如权利要求1-10任一项所述的晶圆保持件。
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