[发明专利]一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备在审
申请号: | 202110914183.8 | 申请日: | 2021-08-10 |
公开(公告)号: | CN115932163A | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 于翔;程实然;张怀东;杨超全;崔虎山;刘朋飞;胡冬冬;许开东 | 申请(专利权)人: | 江苏鲁汶仪器股份有限公司 |
主分类号: | G01N33/00 | 分类号: | G01N33/00;H01L21/67 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 宋天凯 |
地址: | 221300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 边缘 扫描 装置 金属 沾污 检测 设备 | ||
本发明公开一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备,其中,该边缘扫描装置包括:旋转部件,包括承载部,所述承载部用于承载待测试样,所述旋转部件能够带动所述待测试样进行转动;扫描液供给及回收部件,包括喷头,用于吐出和回收扫描液滴;承接部件,包括托臂,所述扫描液滴容纳在所述喷头和所述托臂之间,并能够包裹所述待测试样的边缘部。上述边缘扫描装置可以对待测试样的边缘部进行扫描取样,以为待测试样边缘部的采样检测提供条件。
技术领域
本发明涉及取样扫描技术领域,具体涉及一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备。
背景技术
高性能、低功耗的芯片在制备过程中需要引入大量新的化学元素,而不同化学元素的引入会造成芯片制造过程中金属沾污控制难度的提升。目前,最为常见的金属沾污检测设备是气相分解金属沾污收集系统和电感耦合等离子体质谱仪,但这些检测设备对于待测晶圆的检测主要是集中在待测晶圆的中心区域。
发明内容
本发明的目的是提供一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备,其中,该边缘扫描装置可以对待测试样的边缘部进行扫描取样,以为待测试样边缘部的采样检测提供条件。
为解决上述技术问题,本发明提供一种边缘扫描装置,包括:旋转部件,包括承载部,所述承载部用于承载待测试样,所述旋转部件能够带动所述待测试样进行转动;扫描液供给及回收部件,包括喷头,用于吐出和回收扫描液滴;承接部件,包括托臂,所述扫描液滴容纳在所述喷头和所述托臂之间,并能够包裹所述待测试样的边缘部。
在具体工作时,首先,可以将待测试样放置于承载部;然后,扫描液供给及回收部件可以通过喷头吐出扫描液滴,该扫描液滴的上端仍与喷头挂连,即扫描液滴并没有与喷头相脱离,该扫描液滴的下端可以支撑于托臂,以避免扫描液滴的滴落,同时,该扫描液滴还可以对待测试样的边缘部进行包裹;然后,可以启动旋转部件,以带动待测试样旋转至少一周,这样,扫描液滴即可以对待测试样的边缘部的各个位置进行取样;然后,扫描液供给及回收部件可以再通过喷头对扫描液滴进行回收,即可以完成对于待测试样的边缘部的扫描取样,以为待测试样边缘部的采样检测提供条件。
换而言之,本发明所提供边缘扫描装置可以填补现有技术的空白,使得对于待测试样的边缘部的采样检测成为可能,从而可以辅助完善待测试样的取样检测范围。
可选地,还包括清洁部件,用于对所述托臂进行清洁。
可选地,所述托臂具有承托工位和清洁工位,所述承接部件还配置有驱动机构,用于驱使所述托臂在所述承托工位和所述清洁工位之间进行切换。
可选地,所述清洁部件包括壳体,所述壳体内形成清洁腔,所述壳体的壳壁还设有与所述清洁腔相连通的第一进出口,所述托臂能够通过所述第一进出口进出所述清洁腔;所述清洁部件还配置有清洁构件,用于对所述清洁腔内的所述托臂进行清洁。
可选地,所述清洁构件包括液洗部,所述壳体的下端部还设置有与所述清洁腔相连通的第一排液口;和/或,所述清洁构件包括气洗部。
可选地,所述承接部件还配置有调高构件,用于调整所述托臂的安装高度。
可选地,所述承载部为负压吸盘。
可选地,还包括平台板,所述旋转部件和所述承接部件均安装于所述平台板;所述平台板的上表面设有呈环形的第一槽体,所述第一槽体在所述平台板的上表面围合形成设定区域,所述待测试样在所述平台板的上表面的正投影位于所述设定区域内,所述平台板还设有与所述第一槽体相连通的第二排液口。
可选地,所述平台板的上表面还设有呈环形的第二槽体,所述第二槽体位于所述设定区域内,且所述第二槽体环绕所述旋转部件设置,所述第二槽体和所述第一槽体之间设有第一连通槽。
可选地,所述平台板的上表面在所述第二槽体和所述第一槽体之间的面部呈现为自远离所述第二槽体的方向逐渐向下倾斜。
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