[发明专利]一种用于高纯铝铸锭中杂质元素的检测方法在审

专利信息
申请号: 202110920896.5 申请日: 2021-08-11
公开(公告)号: CN113533406A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 张瑾;孙敏;叶翔;周建波 申请(专利权)人: 宁波锦越新材料有限公司
主分类号: G01N23/2252 分类号: G01N23/2252;G01N23/2202
代理公司: 宁波知坤专利代理事务所(特殊普通合伙) 33312 代理人: 邹艳霜
地址: 315000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 高纯 铸锭 杂质 元素 检测 方法
【说明书】:

发明涉及一种用于高纯铝铸锭中杂质元素的检测方法,包括以下步骤:步骤1、试样制备;步骤2、试样安装;步骤3、试样检测;步骤1具体包括步骤1.1试样切割;步骤1.2试样抛光;步骤1.3试样清洗。将切割好的试样在自动抛光机上进行抛光以除去表面杂质;将抛光过的试样用纯水清洗,再用无水乙醇清洗,进一步消除试样表面难清除的杂质;处理好的试样安装在EPMA检测仪器的试样架上,然后将安装好的待检试样放入EPMA样品室内,设定相关参数后进行高纯铝铸锭中杂质元素的定性检测。本发明应用EPMA检测无需全面检测出准确含量,就可以快速检出高纯铝材料中含有的杂质元素。同时,该方法操作简便,检测快速,且检验结果精确。

技术领域

本发明涉及材料中的杂质元素分析检测领域,尤其涉及一种用于高纯铝铸锭中杂质元素的检测方法。

背景技术

超高纯度铝材,是指纯度≥99.999%(即5N)的纯铝材料。其主要应用于半导体器件的制作行业,少部分用作超导电缆的稳定化材料。阴极溅射是超高纯铝应用的一个主要方向,即将超高纯铝镀膜于半导体表面,起到降低电阻率、易沉积和易刻蚀等作用。溅射靶材已成为制作液晶显示、分立器件和集成电路等领域的关键材料。超高纯铝的典型特点为:1、杂质元素含量极低;2、导电性优良;3、光反射性能非常强。

EPMA(Electron Probe Micro Analyzer),即电子探针显微分析仪,是通过向样品表面照射一束细聚焦电子束,对产生的特征X射线进行分光并测量其强度,以检测微小区域的元素组成及样品表面上元素浓度分布的分析仪器。EPMA是分析材料元素含量及分布的最有效方法,其特点包括:CeB灯丝,可得到高空间分辨率的元素分布图像;52.5°X射线照射角度,可进行高灵敏度的测量;高精度设定分析位置和分析范围;波长色散型x射线分光器(WDS)分率高于能量分散型X射线分光器(EDS)。相比于扫描型电子显微镜(SEM)上配置EDS的型号,可以进行更高精度和更高灵敏度的分析。控制和分析软件,利用多年积累的分析经验,可实现从数据收集到数据分析以及生成分析报告功能,操作简便,结果直观,对分析者查找相关规律提供强有力结果支撑。

目前,对于超高纯铝的成分检测一般应用GDMS也即辉光放点质谱检测准确成分含量,但应用GDMS制备相对复杂、设备相对昂贵。

发明内容

本发明设计了一种用于高纯铝铸锭中杂质元素的检测方法,其解决的技术问题是:(1)现有的GDMS也即辉光放点质谱仪检测方法是用于检测准确的各种成分含量,其需要对样品成分做出全面检测,且样品制备复杂,设备昂贵。而本发明应用EPMA检测方法无需全面检测出准确含量,就可以快速检出高纯铝材料中含有的杂质元素。(2)应用EPMA检测方法简化操作流程,提高检测速度速,同时提高检验结果的准确性、精确性及实用性。

为了解决上述存在的技术问题,本发明采用了以下方案:

一种用于高纯铝铸锭中杂质元素的检测方法,包括以下步骤:

步骤1、试样制备;

步骤2、试样安装;

步骤3、试样检测;

所述的步骤1具体包括步骤1.1试样切割;步骤1.2试样抛光;步骤1.3试样清洗;

所述步骤3是将试样放置在EPMA电子探针显微分析仪器中进行检测。

进一步,所述步骤1至步骤3中的具体操作如下:

步骤1.1、试样切割:将直径φ135mm的高纯铝圆棒铸锭横向切割成厚20mm的圆柱状中间试样,再用锯切机分别在中间试样的边部和中部切割两块、长度×宽度为20×20的检测试样;

步骤1.2、试样抛光:将切割好的试样在自动抛光机上进行抛光,抛光使用水磨砂纸,使用顺序和目数为:120目、240目、600目、1000目、1500目和2000目,抛光的目的是减少甚至消除待测表面的杂质,以保证检测的准确性;

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