[发明专利]测试图形的验证方法、装置、设备及存储介质在审
申请号: | 202110925359.X | 申请日: | 2021-08-12 |
公开(公告)号: | CN113627122A | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 吴彬 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G06F30/398 | 分类号: | G06F30/398 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨泽;臧建明 |
地址: | 230011 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测试 图形 验证 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
本申请提供一种测试图形的验证方法、装置、设备及存储介质,可应用于芯片版图验证领域。该验证方法包括:通过获取测试图形的配置文件,验证配置文件是否满足设计规则要求,得到第一验证结果,输出第一验证结果。其中配置文件包括设计人员为测试图形配置的多项约束条件,第一验证结果用于指示测试图形是否有效。上述验证过程是在执行配置文件之前,先对配置文件进行验证,只要发现一项不满足标准设计规则要求,则判定测试图形无效,可提高测试图形验证的效率和准确率。
技术领域
本申请涉及芯片验证领域,尤其涉及一种测试图形的验证方法、装置、设备及存储介质。
背景技术
一般来说,DRC的开发分为两个阶段,第一阶段为DRC代码的开发,第二阶段为验证图形的开发。通常第二阶段的开发时间占整个开发周期的三分之二。随着制程工艺尺寸越来越小,设计规则也会越来越多。因此,如何快速、全面、准确地验证测试图形的有效性成为亟需解决的一个问题。
发明内容
本申请实施例提供一种测试图形的验证方法、装置、设备及存储介质,可以提升测试图形验证结果的准确率和效率。
根据一些实施例,本申请第一方面提供一种测试图形的验证方法,该方法包括:
获取测试图形的配置文件,所述配置文件包括为所述测试图形配置的多项约束条件;
验证所述配置文件是否满足设计规则要求,得到第一验证结果;所述设计规则要求包括用于限定集成电路不同检查区域中各检查项的数值范围的规则;
输出所述第一验证结果,所述第一验证结果用于指示所述测试图形是否有效。
在本申请的一个可选实施例中,所述验证所述配置文件是否满足设计规则要求,得到第一验证结果,包括:
通过设计规则手册DRM文件获取所述测试图形所在检查区域的第一设计规则和第二设计规则;所述第一设计规则包括用于限定所述测试图形所在检查区域中第一检查项的数值范围的规则,所述第二设计规则包括用于限定所述测试图形所在检查区域中第二检查项的数值范围的规则,所述第一检查项与所述第二检查项之间具有关联关系;
验证所述配置文件是否满足第一设计规则,得到第二验证结果;
验证所述配置文件是否满足第二设计规则,得到第三验证结果;
根据所述第二验证结果和所述第三验证结果,确定所述第一验证结果。
在本申请的一个可选实施例中,所述根据所述第二验证结果和所述第二验证结果,确定所述第一验证结果,包括:
若所述第一验证结果和所述第二验证结果均指示所述测试图形有效,则所述第一验证结果用于指示所述测试图形有效;或者
若所述第一验证结果和所述第二验证结果中的至少一个验证结果指示所述测试图形无效,则所述第一验证结果用于指示所述测试图形无效。
在本申请的一个可选实施例中,若所述第一验证结果用于指示所述测试图形无效,所述第一验证结果包括所述配置文件中错误字段的位置信息,所述方法还包括:
响应于测试人员的输入操作,修正所述配置文件;
验证修正后的配置文件是否满足设计规则要求。
在本申请的一个可选实施例中,若所述第一验证结果用于指示所述测试图形有效,所述方法还包括:
执行所述测试图形的配置文件,生成测试图形;
将所述测试图形存储至有效测试图形库中。
在本申请的一个可选实施例中,所述第一检查项包括:所述集成电路中目标对象之间距离值,所述第二检查项包括:所述集成电路中目标对象之间的位置关系,所述目标对象包括半导体结构,通孔的至少一种。
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