[发明专利]一种无芯基板的制作方法在审

专利信息
申请号: 202110935589.4 申请日: 2021-08-16
公开(公告)号: CN113725148A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 张成立;王强;徐光龙 申请(专利权)人: 宁波华远电子科技有限公司
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 袁忠卫
地址: 315403 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 无芯基板 制作方法
【权利要求书】:

1.一种无芯基板的制作方法,其特征在于,该制作方法包括如下步骤:

S1、在基材铜(1)顶面添加第一光刻胶层(21),进行曝光、显影,形成第一光刻胶图形层;

S2、在第一光刻胶图形层中电镀上第一层间导体(31);

S3、剥离第一光刻胶层(21),留下第一层间导体(31);

S4、在第一层间导体(31)及剩余的基材铜(1)顶面上堆叠第一绝缘层(41);

S5、对第一绝缘层(41)进行研磨,使第一绝缘层(41)与第一层间导体(31)齐平;

S6、在第一绝缘层(41)和第一层间导体(31)的顶面沉积添加第一种子层(51);

S7、在第一种子层(51)顶面和基材铜(1)底面分别贴上第一感光干膜(601)和第二感光干膜(602),并对第一感光干膜(601)进行曝光,形成第一感光图形层;

S8、去除第一感光干膜(601)的第一未感光图形层部分,并电镀上第二层间导体(32);

S9、去除第一感光干膜(601)和第二感光干膜(602);

S10、双面压膜,此处压膜采用曝光可以固化的保护膜,保护电路板;

S11、上表面曝光,使此处压膜固化,不容易被显影而除去;

S12、下表面显影,从而此处压膜被溶液除去;

S13、基材铜减薄,将下表面的基材铜进行减薄处理,使其厚度降低,控制在15-35μm范围内;

S14、去压膜,将上表面曝光固化的压膜除去;

S15、在第一种子层(51)和第二层间导体(32)的顶面贴上第三感光干膜(603),在基材铜(1)底面贴上第四感光干膜(604),并对第四感光干膜(604)进行曝光,形成第四感光图形层;

S16、去除第四感光干膜(604)的第四未感光图形层部分,根据剩下的第四感光干膜(604)对基材铜(1)进行蚀刻;

S17、去除第三感光干膜(603)和第四感光干膜(604);

S18、在第一绝缘层(41)的底面沉积添加第二种子层(52);

S19、在第一种子层(51)和第二层间导体(32)的顶面贴上第五感光干膜(605),在剩余的基材铜(1)和第二种子层(52)的底面贴上第六感光干膜(606),并对第五感光干膜(605)和第六感光干膜(606)进行曝光,对应地形成第五感光图形层和第六感光图形层;

S20、去除第五感光干膜(605)和第六感光干膜(606)的第五未感光图形层和第六未感光图形层部分,并对应地电镀上第三层间导体(33)和第四层间导体(34);

S21、去除第五感光干膜(605)、第六感光干膜(606)、第一种子层(51)和第二种子层(52);

S22、在第一绝缘层(41)、第二层间导体(32)和第三层间导体(33)的顶面堆叠第二绝缘层(42),在第一绝缘层(41)、基材铜(1)和第四层间导体(34)的底面堆叠第三绝缘层(43);

S23、对第二绝缘层(42)和第三绝缘层(43)进行研磨,使第二绝缘层(42)和第三层间导体(33)、第三绝缘层(43)和第四层间导体(34)齐平;

S24、在第二绝缘层(42)和第三层间导体(33)的顶面沉积添加第三种子层(53),在第三绝缘层(43)和第四层间导体(34)的底面沉积添加第四种子层(54);

S25、在第三种子层(53)的顶面和第四种子层(54)的底面分别贴上第七感光干膜(607)和第八感光干膜(608),并对第七感光干膜(607)和第八感光干膜(608)进行曝光,形成第七感光图形层和第八感光图形层;

S26、去除第七感光干膜(607)和第八感光干膜(608)的第七未感光图形层和第八未感光图形层部分,并对应地电镀上第五层间导体(35)和第六层间导体(36);

S27、在第七感光干膜(607)和第五层间导体(35)的顶面贴上第九感光干膜(609),在第八感光图形(608)部分和第六层间导体(36)的底面贴上第十感光干膜(610),并对第九感光干膜(609)和第十感光干膜(610)进行曝光,对应地形成第九感光图形层和第十感光图形层;

S28、去除第九感光干膜(609)和第十感光干膜(610)的第九未感光图形层和第十未感光图形层部分,并对应地加厚第五层间导体(35)和第六层间导体(36);

S29、去除第九感光干膜(609)、第十感光干膜(610)、第七感光干膜(607)、第八感光干膜(608)、第三种子层(53)和第四种子层(54);

S30、在第五层间导体(35)和第二绝缘层(42)的顶面堆叠第四绝缘层(44),在第六层间导体(36)和第三绝缘层(43)的底面堆叠第五绝缘层(45);

S31、对第四绝缘层(44)和第五绝缘层(45)进行研磨,对应地露出加厚的第五层间导体(35)和第六层间导体(36);

S32、减薄外露的第五层间导体(35)和第六层间导体(36);

S33、在第四绝缘层(44)和第五绝缘层(45)上涂布感光阻焊层(7),对外露的导体进行表面处理。

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