[发明专利]用于发声装置的振膜及发声装置

权利要求书

1.一种用于发声装置的振膜，其特征在于，所述振膜包括至少一层硅橡胶膜层，所述硅橡胶膜层是以侧链含有乙烯基的聚硅氧烷作为基础聚合物，在所述基础聚合物中添加填料、交联剂和核壳结构催化剂，经混炼，硫化成型得到；其中，所述核壳结构催化剂包括内核和包裹在内核外的外壳，所述内核为铂金催化剂，所述外壳为热塑性材料。

2.如权利要求1所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述核壳结构催化剂采用相分离法制备得到，核壳结构粒径为0.1μm～50μm。

3.如权利要求2所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述核壳结构中外壳的厚度为0.05μm～40μm。

4.如权利要求1所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述铂金催化剂为氯铂酸或铂(0)-二乙烯-四甲基二硅氧烷复合物。

5.如权利要求1所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述外壳为软化点为50℃～100℃的热塑性材料。

6.如权利要求5所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述热塑性材料为石蜡、丙烯酸酯聚合物、聚乙烯、聚氯乙烯和聚苯乙烯中的一种或几种。

7.如权利要求1所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述基础聚合物为乙烯基聚硅氧烷、羟基乙烯基聚硅氧烷、苯基乙烯基聚硅氧烷中的一种或几种。

8.如权利要求1所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述填料为二氧化硅、云母、石墨烯、粘土、碳酸钙、碳纳米管、高岭土、和滑石粉中的一种或几种。

9.如权利要求1所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述交联剂为含氢硅油。

10.如权利要求1所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述振膜的厚度为40μm～150μm。

11.如权利要求1所述的用于发声装置的振膜，其特征在于，所述硅橡胶膜层的固化成型温度为50℃～100℃。

12.一种发声装置，其特征在于，包括振动系统以及与所述振动系统相配合的磁路系统，所述振动系统包括振膜和结合在所述振膜一侧的音圈，所述磁路系统驱动所述音圈振动以带动所述振膜发声，所述振膜为权利要求1～11中任一项所述的振膜。

13.一种发声装置，其特征在于，包括壳体以及设在所述壳体内的磁路系统和振动系统，所述振动系统包括音圈、第一振膜和第二振膜，所述音圈的顶部与所述第一振膜相连，所述磁路系统驱动所述音圈振动以带动所述第一振膜发声，所述第二振膜的两端分别与所述壳体和所述音圈的底部相连，所述第二振膜为权利要求1～11中任一项所述的振膜。

14.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求12或权利要求13所述的发声装置。