[发明专利]高密度ITO靶材粉末的处理方法在审
| 申请号： | 202110940440.5 | 申请日： | 2021-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN113800900A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 马建保;王志强;陶成;曾墩风;盛明亮 | 申请（专利权）人： | 芜湖映日科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/453 | 分类号： | C04B35/453;C04B35/626;C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市中国（安徽）自*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高密度 ito 粉末 处理 方法 | ||
1.一种高密度ITO靶材粉末的处理方法，ITO靶材粉末包括有氧化铟粉末和氧化锡粉末；其特征在于：包括有以下步骤：
步骤一：首先准备氧化铟粉末和氧化锡粉末；
步骤二：对氧化锡粉末进行预磨：将氧化锡粉末倒入砂磨机中，加入定量去离子水，此时固含量为20%-55%，再加入分散剂和添加剂，之后预搅拌混合后进行预磨；
步骤三：将氧化铟粉末倒入砂磨罐内与步骤二制得的氧化锡浆料混合，加入定量的去离子水、分散剂和添加剂，混合搅拌均匀后开启砂磨机砂磨，直至粒度达到规定要求；
分散剂为：分散剂为阴离子分散剂HS-DISPERSANT 6067M，其中步骤二的分散剂添加量/步骤二+步骤三的分散剂添加量≤40%。
2.如权利要求1所述高密度ITO靶材粉末的处理方法，其特征在于：所述步骤二预搅拌混合后进行预磨具体为：预搅拌≥10分钟后，开始预磨氧化锡，采用循环或打道次方式预磨，预磨后将预磨的氧化锡浆料打入砂磨罐内等待。
3.如权利要求2所述高密度ITO靶材粉末的处理方法，其特征在于：预磨直至氧化锡浆料的浆料粒度达到0.15umD500.3um。
4.如权利要求1所述高密度ITO靶材粉末的处理方法，其特征在于：所述步骤三砂磨之后再加入一定量添加剂和去离子水。
5.如权利要求1所述高密度ITO靶材粉末的处理方法，其特征在于：还包括步骤四：将浆料进行造粒，之后混合分级得到ITO靶材粉末。
6.如权利要求5所述高密度ITO靶材粉末的处理方法，其特征在于：所述步骤四混合分级后对ITO靶材粉末成型烧结，得到ITO靶材烧结体。
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