[发明专利]一种PCB外层线路的制作方法在审

专利信息
申请号: 202110942205.1 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN113709979A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 史宏宇;陈蓓;李志东 申请(专利权)人: 深圳市华芯微测技术有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/02;H05K3/40;H05K3/42
代理公司: 深圳中恒科专利代理有限公司 44808 代理人: 王丽
地址: 518116 广东省深圳市龙岗区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 pcb 外层 线路 制作方法
【权利要求书】:

1.一种PCB外层线路的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1、压合,按照设计顺序对铜箔(3)、芯板(5)、PP(4)进行压合,形成PCB压合板;

S2、上纯胶,在PCB压合板的CS面与SS面各放置一张纯胶(2);

S3、上假层铜箔,在每张所述纯胶(2)的外层各放置一张假层铜箔(1),并进行压合;

S4、钻孔,对S3的PCB压合板钻孔,并去除钻孔残胶;

S5、沉铜,使孔壁沉积一层铜,进而使孔壁具有导电性;

S6、电镀,采用正常全板电镀参数对镀铜(7)进行加厚,达到镀铜厚度要求;

S7、贴膜曝光显影,用干膜(6)对孔进行掩盖,并对其进行曝光显影;

S8、去假层铜箔,显影后采用化学蚀刻的方式,蚀刻去除所述假层铜箔(1)上的所述镀铜(7)及所述假层铜箔(1),直至除所述干膜(6)位置外其他区域均无任何铜残留为止;

S9、褪干膜,用褪膜药水将掩盖钻孔的所述干膜(6)去除;

S10、去纯胶,褪去所述干膜(6)后用除胶药水将去除S2的纯胶层,直至除孔位置处表面完全露出铜面形成残桩(8);

S11、去残桩,用机械打磨的方式对所述残桩(8)进行打磨,直至孔位置处手触无凹凸感;

S12、蚀刻表面图形,去除残桩后进行图形转移,蚀刻出设计表面图形。

2.根据权利要求1所述的一种PCB外层线路的制作方法,其特征在于:上述步骤S4中,采用等离子的方式去除钻孔的残胶。

3.根据权利要求1所述的一种PCB外层线路的制作方法,其特征在于:上述步骤S7中,所述干膜(6)的直径比钻孔的直径单边大3mil。

4.根据权利要求3所述的一种PCB外层线路的制作方法,其特征在于:上述步骤S9中,褪膜药水是浓度为2.5%-4.5%的氢氧化钠溶液。

5.根据权利要求4所述的一种PCB外层线路的制作方法,其特征在于:上述步骤S10中,除胶药水是浓度为4.0%-5.5%的高锰酸钾熔液。

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