[发明专利]一种PCB外层线路的制作方法在审
申请号: | 202110942205.1 | 申请日: | 2021-08-17 |
公开(公告)号: | CN113709979A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 史宏宇;陈蓓;李志东 | 申请(专利权)人: | 深圳市华芯微测技术有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/02;H05K3/40;H05K3/42 |
代理公司: | 深圳中恒科专利代理有限公司 44808 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 518116 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pcb 外层 线路 制作方法 | ||
本发明属于PCB线路制作技术领域,具体涉及一种PCB外层线路的制作方法,包括压合、上纯胶、上假层铜箔、钻孔、沉铜、电镀、贴膜曝光显影、去假层铜箔、褪干膜、去纯胶、去残桩、蚀刻表面图形等工艺。在进行镀铜前,在面铜表面覆盖一层假铜,当在对钻孔进行镀铜时,使多余镀铜在假铜上附着而不对PCB板的面铜造成影响,避免了面铜在镀铜过程中厚度增加,并能有效保证面铜的均匀性,可最大程度提升外层线路线宽与间距制作能力。
技术领域
本发明属于PCB线路制作技术领域,具体涉及一种PCB外层线路的制作方法。
背景技术
随着科技的发展与进步,电子行业也发展迅速,作为电子电路的基础,PCB板的制作对设备的性能有着极大的影响。PCB外层线路制作能力主要体现为最小线宽、最小间距能力,最小线宽与最小间距能力越小,单位面积能够设计的线路密度越高。然而,PCB线宽与间距能力最大的限制因素为线路层的铜厚及其均匀性。铜厚越小且均匀性越好,则线宽与间距能力越佳。当前,PCB制作过程中,孔金属化不可避免的需要进行整板电镀,即孔铜与面铜同时加厚,从而导致面铜厚度增加,铜厚均匀性下降。
因此需要设计一种PCB外层线路的制作方法,在对PCB板钻孔进行金属化的过程中不会影响面铜的厚度、保证面铜的均匀性。
发明内容
针对上述背景技术所提出的问题,本发明的目的是:旨在提供一种PCB外层线路的制作方法。为实现上述技术目的,本发明采用的技术方案如下:
一种PCB外层线路的制作方法,包括如下步骤:
S1、压合,按照设计顺序对铜箔、芯板、PP进行压合,形成PCB压合板;
S2、上纯胶,在PCB压合板的CS面与SS面各放置一张纯胶;
S3、上假层铜箔,在每张纯胶的外层各放置一张假层铜箔,并进行压合;
S4、钻孔,对S3的PCB压合板钻孔,并去除钻孔残胶;
S5、沉铜,使孔壁沉积一层铜,进而使孔壁具有导电性;
S6、电镀,采用正常全板电镀参数对镀铜进行加厚,达到镀铜厚度要求;
S7、贴膜曝光显影,用干膜对孔进行掩盖,并对其进行曝光显影;
S8、去假层铜箔,显影后采用化学蚀刻的方式,蚀刻去除假层铜箔上的镀铜及假层铜箔,直至除干膜位置外其他区域均无任何铜残留为止;
S9、褪干膜,用褪膜药水将掩盖钻孔的干膜去除;
S10、去纯胶,褪去干膜后用除胶药水将去除S2的纯胶层,直至除孔位置处表面完全露出铜面形成残桩;
S11、去残桩,用机械打磨的方式对残桩进行打磨,直至孔位置处手触无凹凸感;
S12、蚀刻表面图形,去除残桩后进行图形转移,蚀刻出设计表面图形。
进一步限定,上述步骤S4中,采用等离子的方式去除钻孔的残胶。
进一步限定,上述步骤S7中,干膜的直径比钻孔的直径单边大3mil。
进一步限定,上述步骤S9中,褪膜药水是浓度为2.5%-4.5%的氢氧化钠溶液。
进一步限定,上述步骤S10中,除胶药水是浓度为4.0%-5.5%的高锰酸钾熔液。
采用本发明的有益效果:
1、本发明所述的一种PCB外层线路的制作方法,在进行镀铜前,在面铜表面覆盖一层假铜,当在对钻孔进行镀铜时,使多余镀铜在假铜上附着而不对PCB板的面铜造成影响,避免了面铜在镀铜过程中厚度增加,并能有效保证面铜的均匀性,可最大程度提升外层线路线宽与间距制作能力;
2、本发明所述的一种PCB外层线路的制作方法,采用蚀刻的方式去除假层铜箔,并采用浓度为4.0%-5.5%的高锰酸钾熔液对纯胶进行去除,去除效果好,工艺简单可靠。
附图说明
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