[发明专利]半导体存储装置在审

专利信息
申请号: 202110947764.1 申请日: 2021-08-18
公开(公告)号: CN115117072A 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 前嶋洋 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/11529 分类号: H01L27/11529;H01L27/11548;H01L27/11556;H01L27/11573;H01L27/11575;H01L27/11582;G11C5/06;G11C7/06;G11C7/18;G11C16/04
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体存储装置,具备:

第1存储单元,设置在衬底的上方;

第1位线,在第1方向上延伸,电连接于所述第1存储单元;

第1焊垫,电连接于所述第1位线;

第1感测放大器,电连接于所述第1焊垫,对所述第1位线的电压进行感测;

第2存储单元,设置在所述衬底的上方;

第2位线,与所述第1位线相邻地在所述第1方向上延伸,且电连接于所述第2存储单元;

第2焊垫,电连接于所述第2位线;及

第2感测放大器,电连接于所述第2焊垫,对所述第2位线的电压进行感测;

所述第1感测放大器与所述第2感测放大器相邻而在与所述第1方向交叉的第2方向上排列,所述第1焊垫与所述第2焊垫相邻而在与所述第1方向及所述第2方向交叉的第3方向上排列。

2.一种半导体存储装置,具备:

第1存储单元,设置在衬底的上方;

第1位线,在第1方向上延伸,且电连接于所述第1存储单元;

第1焊垫,电连接于所述第1位线;

第1晶体管,电连接于所述第1焊垫;

第2晶体管,电连接于所述第1晶体管;

第2存储单元,设置在所述衬底的上方;

第2位线,与所述第1位线相邻地在所述第1方向上延伸,且电连接于所述第2存储单元;

第2焊垫,电连接于所述第2位线;

第3晶体管,电连接于所述第2焊垫;

第4晶体管,电连接于所述第3晶体管;

所述第2晶体管与所述第4晶体管在与所述第1方向交叉的第2方向上排列,

所述第1焊垫与所述第2焊垫相邻而在与所述第1方向及所述第2方向交叉的第3方向上排列,

所述第1晶体管与所述第3晶体管在所述第3方向上排列。

3.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中所述第1位线及所述第2位线配置在所述第1存储单元及所述第2存储单元、与所述第1感测放大器及所述第2感测放大器之间。

4.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中所述第1焊垫具有电连接于所述第1位线的第1导电焊垫、及电连接于所述第1感测放大器的第2导电焊垫,所述第1导电焊垫与所述第2导电焊垫在与所述第1方向及所述第2方向正交的第4方向上贴合。

5.根据权利要求1所述的半导体存储装置,还具备:

第1晶体管,设置在所述第1焊垫与所述第1感测放大器之间;及

第2晶体管,设置在所述第2焊垫与所述第2感测放大器之间;

所述第1晶体管与所述第2晶体管在所述第3方向上排列。

6.根据权利要求5所述的半导体存储装置,其中所述第1晶体管及所述第2晶体管包含高耐压晶体管。

7.根据权利要求1所述的半导体存储装置,在所述衬底的上方还具备:

多个导电层,在与所述第1方向及所述第2方向交叉的第3方向上层叠;及

柱,在所述第3方向上延伸,穿过所述多个导电层并与所述第1位线电连接。

8.根据权利要求7所述的半导体存储装置,其中所述导电层为字线,所述导电层与所述柱交叉的部分作为所述第1存储单元发挥功能。

9.根据权利要求5所述的半导体存储装置,其中所述第1感测放大器包含第3晶体管,所述第3晶体管设置在所述衬底上,且与所述第1晶体管电连接,

所述第2感测放大器包含第4晶体管,所述第4晶体管设置在所述衬底上,且与所述第2晶体管电连接。

10.根据权利要求1所述的半导体存储装置,还具备:

第1配线,电连接于所述第1位线及所述第1焊垫,且在所述第2方向上延伸;及

第2配线,电连接于所述第2位线及所述第2焊垫,与所述第1配线相邻且在所述第2方向上延伸。

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