[发明专利]一种旋转靶材

说明书

本发明提供了一种旋转靶材，所述的旋转靶材包括靶材本体，所述的靶材本体为环形结构，所述的靶材本体两侧表面均设置有同轴的凸台，所述的靶材本体和凸台为一体式结构，所述凸台的表面分为中心区域的平面以及外周区域的梯形斜面。在本发明中，提供了一种新的形状设计方案用于铜旋转溅射靶材的使用，在对应旋转靶溅射最深的区域设计了旋转靶管体两端的加厚区和过渡区，既达到能加长溅射寿命的目的，又不会因靶材加厚区域超差影响磁控溅射效果。

技术领域

本发明属于溅射靶材的应用技术领域，涉及靶材使用寿命的开发设计，尤其涉及一种旋转靶材。

背景技术

旋转靶材是磁控的靶材，靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体以慢速转动，主要包括锌锡合金、锌铝合金、锡镉合金、铜铟合金、铜铟镓合金、铜镓合金以及锡、钼和钛等旋转靶材。目前，高纯旋转靶材多用于液晶显示器、太阳能面板等镀膜领域，相比传统的平面类靶材，旋转靶利用率可达80％且镀膜质量也明显优于平面靶材，旋转靶材目前国内对高纯旋转靶材的生产处于初级阶段，而对结构更加复杂、技术难度更高的旋转靶材的开发基本没有。

CN103789735B公开了一种旋转靶及溅射装置，旋转靶包括相对而置的上挡板和下挡板、位于上挡板与下挡板之间的支撑体以及多段相互紧密连接且包覆在支撑体外表面的旋转靶材，由于各旋转靶材的接缝在支撑体的旋转轴的投影为线段，而不是点，这样在旋转靶的旋转过程中，可以使各旋转靶材的接缝在基板上的投影来回移动，而不会使各旋转靶材的接缝始终对应基板的同一位置，从而使在基板上制备的薄膜的表面更均匀且性能一致，使旋转靶的镀膜质量得到优化。

CN201670870U公开了一种旋转靶块体以及旋转靶总成，其包括至少二旋转靶块体，其相互接合，各旋转靶块体包括具有第一凹凸结构的一近端面以及一远端面，该远端面具有与近端面第一凹凸结构能相互匹配的第二凹凸结构，以令该第二凹凸结构与第一凹凸结构形成相互遮蔽的结构，其中一旋转靶块体的第一凹凸结构与另一旋转靶块体的第二凹凸结构接合，以令该旋转靶总成具有非径向穿透的接缝，借此能将背管包覆于该等旋转靶块体中，故可避免溅镀过程中，电浆轰击到粘着靶材于背管的材料、支撑靶材的背管材料或间隙内表面结块的问题。

CN111331518A公开了一种高纯旋转靶材表面处理的方法，所述方法包括：将高纯旋转靶材进行遮蔽处理，遮蔽处理完成后进行喷砂；其中，所述喷砂完成后靶材表面的粗糙度Rz为35～65μm；所述遮蔽处理为采用胶带将高纯旋转靶材的两端头溅射面和侧边进行遮蔽。通过该方法处理后旋转靶材两端头表面喷砂后色泽一致，表面粗糙度均匀并得到提高，无污渍等杂质，提高对靶材溅射过程中反溅射物的吸附能力，改善靶材镀膜质量及提高良品率。

铜旋转溅射靶材在溅射过程中，使用寿命为19000kWh左右，利用率在70％，因此，为提高靶材溅射寿命，提高单次溅射靶材应用于机台中的利用率提升至80％，亟需提供一种铜旋转靶溅射区域两端机台高功率区域，既达到能加长溅射寿命的目的，又不会因靶材加厚区域超差影响磁控溅射效果。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种旋转靶材，在本发明中，提供了一种新的形状设计方案用于铜旋转溅射靶材的使用，在对应旋转靶溅射最深的区域设计了旋转靶管体两端的加厚区和过渡区，既达到能加长溅射寿命的目的，又不会因靶材加厚区域超差影响磁控溅射效果。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

本发明提供了一种旋转靶材，所述的旋转靶材包括靶材本体，所述的靶材本体为环形结构，所述的靶材本体两侧表面均设置有同轴的凸台，所述的靶材本体和凸台为一体式结构，所述凸台的表面分为中心区域的平面以及外周区域的梯形斜面。

在本发明中，提供了一种新的形状设计方案用于铜旋转溅射靶材的使用，在对应旋转靶溅射最深的区域设计了旋转靶管体两端的加厚区和过渡区，既达到能加长溅射寿命的目的，又不会因靶材加厚区域超差影响磁控溅射效果。