[发明专利]一种诱导脱铜槽全速脱除砷杂质的方法在审
| 申请号： | 202110960964.0 | 申请日： | 2021-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN113718296A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 王栋;周明祖;张晓星;吴明滨 | 申请（专利权）人： | 白银有色集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12;C25C7/06 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 尹洁芳 |
| 地址： | 730900 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 诱导 脱铜槽 全速 脱除 杂质 方法 | ||
1.一种诱导脱铜槽，包括第一阶段脱铜空腔(1)、第二阶段脱铜空腔(2)、第三阶段脱铜空腔(3)和第四阶段脱铜空腔(4)，其特征在于：所述第一阶段脱铜空腔(1)、第二阶段脱铜空腔(2)、第三阶段脱铜空腔(3)和第四阶段脱铜空腔(4)由上至下依次固定连接，所述第一阶段脱铜空腔(1)和第二阶段脱铜空腔(2)之间、第二阶段脱铜空腔(2)和第三阶段脱铜空腔(3)之间、第三阶段脱铜空腔(3)和第四阶段脱铜空腔(4)之间均通过管道连通。
2.一种诱导脱铜槽全速脱除砷杂质的方法，其特征在于，所述脱除砷杂质的方法包括以下步骤：
步骤1、调节主给液器，控制进入第一阶段脱铜空腔(1)电解液的流量，使用电积脱铜电流对电解液进行电解，使电解液液体铜离子浓度达到20g/L；
步骤2、第一阶段脱铜空腔(1)中电解后的电解液流入第二阶段脱铜空腔(2)中，调节辅助给液器，控制进入第二阶段脱铜空腔(2)电解液的流量，使用电积脱铜电流对电解液进行电解；
步骤3、第二阶段脱铜空腔(2)中电解后的电解液流入第三阶段脱铜空腔(3)中，调节辅助给液器，控制进入第三阶段脱铜空腔(3)电解液的流量，使用电积脱铜电流对电解液进行电解，使电解液液体铜离子浓度达到2g/L；
步骤4、第三阶段脱铜空腔(3)中电解后的电解液流入第四阶段脱铜空腔(4)中，使用电积脱铜电流对电解液进行电解，使电解液液体铜离子浓度达到0.5～1g/L。
3.根据权利要求2所述的一种诱导脱铜槽全速脱除砷杂质的方法，其特征在于：所述步骤1、步骤2、步骤3和步骤4中的电积脱铜电流的大小为7500A。
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