[发明专利]涂覆显影设备在审

专利信息
申请号: 202110963138.1 申请日: 2021-08-20
公开(公告)号: CN115903404A 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 李康植;吴均;王晖;程成;郑敦宇;孙永成;王文军;邵乾;王俊;王德云;金泳律 申请(专利权)人: 盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30;G03F7/16;H01L21/677
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 201203 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显影 设备
【权利要求书】:

1.一种涂覆显影设备,包括依次连接的设备前端模块、工艺站以及接口站,其中,工艺站包括:

涂覆单元,包含至少一列垂直堆叠的涂覆模块,用于对基板进行涂覆处理;

显影单元,包含至少一列垂直堆叠的显影模块,用于对基板进行显影处理;

至少一个横向运动的移动传输部;以及

至少一个垂直运动的侧面机械手;

其中基板在涂覆单元完成处理后,由所述至少一个侧面机械手将基板搬入移动传输部中,并由移动传输部传送至接口站;基板在显影单元完成处理后,由所述至少一个侧面机械手将基板搬入移动传输部中,并由移动传输部传送至设备前端模块。

2.根据权利要求1所述的涂覆显影设备,其特征在于,

涂覆单元还包括至少一列垂直堆叠的热处理模块,位于涂覆模块的对面,用于对涂覆处理前后的基板进行加热和冷却处理;

显影单元还包括至少一列垂直堆叠的热处理模块,位于显影模块的对面,用于对显影处理前后的基板进行加热和冷却处理。

3.根据权利要求2所述的涂覆显影设备,其特征在于,所述至少一个移动传输部位于涂覆单元和显影单元的顶部或底部。

4.根据权利要求3所述的涂覆显影设备,其特征在于,

涂覆单元还包括至少一个涂覆机械手,用于在涂覆单元的涂覆模块和热处理模块之间传送基板;

显影单元还包括至少一个显影机械手,用于在显影单元的显影模块和热处理模块之间传送基板。

5.根据权利要求2所述的涂覆显影设备,其特征在于,所述至少一个移动传输部位于涂覆单元和显影单元的顶部和底部之间。

6.根据权利要求5所述的涂覆显影设备,其特征在于,

涂覆单元包括配置在位于涂覆单元和显影单元的顶部和底部之间的移动传输部上下两侧的至少一个涂覆机械手,用于在涂覆单元的涂覆模块和热处理模块之间传送基板;

显影单元包括配置在位于涂覆单元和显影单元的顶部和底部之间的移动传输部上下两侧的至少一个显影机械手,用于在显影单元的显影模块和热处理模块之间传送基板。

7.根据权利要求1所述的涂覆显影设备,其特征在于,至少一个所述侧面机械手配置在涂覆单元和显影单元之间,用于将在涂覆单元完成处理之后的基板搬入移动传输部,或者将在显影单元完成处理之后的基板搬入移动传输部。

8.根据权利要求1所述的涂覆显影设备,其特征在于,工艺站包括至少两个所述侧面机械手,所述至少两个所述侧面机械手中的至少一个侧面机械手配置在涂覆单元和设备前端模块之间,用于将在涂覆单元完成处理之后的基板搬入移动传输部,或者将在显影单元完成处理之后的基板从移动传输部搬出;

以及所述至少两个所述侧面机械手中的至少一个侧面机械手配置在显影单元和接口站之间,用于将在显影单元完成处理之后的基板搬入移动传输部,或者将在涂覆单元完成处理之后的基板从移动传输部搬出。

9.根据权利要求1所述的涂覆显影设备,其特征在于,工艺站包括至少三个所述侧面机械手,所述至少三个所述侧面机械手中的至少一个侧面机械手配置在涂覆单元和设备前端模块之间,用于将在显影单元完成处理之后的基板从移动传输部搬出;

所述至少三个所述侧面机械手中的至少一个侧面机械手配置在涂覆单元和显影单元之间,用于将在涂覆单元完成处理之后的基板搬入移动传输部,或者将在显影单元完成处理之后的基板搬入移动传输部;

以及所述至少三个所述侧面机械手中的至少一个侧面机械手配置在显影单元和接口站之间,用于将在涂覆单元完成处理之后的基板从移动传输部搬出。

10.根据权利要求1所述的涂覆显影设备,其特征在于,

设备前端模块包括设备前端机械手,设备前端机械手将在显影单元完成处理后的基板从移动传输部中搬出;

接口站包括接口机械手,接口机械手将在涂覆单元完成处理后的基板从移动传输部中搬出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司,未经盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110963138.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top