[发明专利]涂覆显影设备

说明书

本发明揭示一种涂覆显影设备，包括依次连接的设备前端模块、工艺站以及接口站，工艺站包括涂覆单元、显影单元、至少一个横向移动的移动传输部以及至少一个侧面机械手，当基板在涂覆单元完成处理后，由至少一个侧面机械手将基板搬入移动传输部中，并由移动传输部传送至接口站；当基板在显影单元完成处理后，由至少一个侧面机械手将基板搬入移动传输部中，并由移动传输部传送至设备前端模块。在本发明中，配置移动传输部和侧面机械手，负责在设备前端模块和接口站之间传送在涂覆或显影单元完成处理之后的基板，能够降低涂覆或显影单元内部的机械手运行负荷，从而降低机械手运行效率对涂覆显影设备产出率的影响，进而提高涂覆显影设备的产出率。

技术领域

本发明涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种涂覆显影设备。

背景技术

目前实现光刻工艺的内联机台是由涂胶显影机台和曝光机组成。光刻工艺的一般流程为：基板在涂胶显影机台完成涂胶工艺处理后，送入曝光机中进曝光处理，经曝光后的基板再次返回涂胶显影机台完成显影工艺处理。

传统的涂胶显影机台，例如专利文献1(CN104465460B)所记载，包括依次串联的载体块、处理块和接口块。其中，处理块具备叠层布置的四层涂覆用单位块，以及堆叠在四层涂覆用单位块之上的显影用单位块。各层单位块内配置一个在其中央搬运区域水平移动的机械手。受限于设备总高度的设计要求，可能没有足够的空间为每层单位块均配置风机过滤机组(FFU)，进而无法保证各层单位块内工艺环境的洁净度，最终会增加基板表面产生颗粒污染的风险。

此外，各层单位块内的机械手既要忙于在单位块内的各处理模块(例如涂覆模块、显影模块或热处理模块)之间传送基板，还要忙于在载体块和接口块之间传递基板，这将导致工艺机器人十分忙碌，一定程度上会抑制设备的运行效率。

发明内容

本发明提出的涂覆显影设备及其基板传输方法，可减少基板颗粒污染风险，并提高设备的整体运行效率。

本发明提供的涂覆显影设备，包括依次连接的设备前端模块、工艺站以及接口站，其中，工艺站包括：

涂覆单元，包含至少一列垂直堆叠的涂覆模块，用于对基板进行涂覆处理；

显影单元，包含至少一列垂直堆叠的显影模块，用于对基板进行显影处理；

至少一个横向运动的移动传输部；以及

至少一个垂直运动的侧面机械手；

其中基板在涂覆单元完成处理后，由所述至少一个侧面机械手将基板搬入移动传输部中，并由移动传输部传送至接口站；基板在显影单元完成处理后，由所述至少一个侧面机械手将基板搬入移动传输部中，并由移动传输部传送至设备前端模块。

涂覆单元内的涂覆模块采用垂直布局，能够使多层涂覆模块共享同一个涂覆机械手，可以减少涂覆单元内FFU的安装数量，使得工艺环境控制更加容易。显影单元与涂覆单元一样，可以采用较少数量的FFU便可以确保整个单元内部环境的洁净度。

横向运动的移动传输部和垂直运动的侧面机械手有效配合，使得在涂覆或显影单元完成处理后的基板快速传送至接口站或设备前端模块，能够提高设备的运行效率。

作为本发明的一种可选方案，涂覆单元还包括至少一列垂直堆叠的热处理模块，位于涂覆模块的对面，用于对涂覆处理前后的基板进行加热和冷却处理；

显影单元还包括至少一列垂直堆叠的热处理模块，位于显影模块的对面，用于对显影处理前后的基板进行加热和冷却处理。

作为本发明的一种可选方案，所述至少一个移动传输部位于涂覆单元和显影单元的顶部或底部。

作为本发明的一种可选方案，涂覆单元还包括至少一个涂覆机械手，用于在涂覆单元的涂覆模块和热处理模块之间传送基板；