[发明专利]一种多晶硅棒材料的高洁净度退火方法有效
申请号: | 202110970253.1 | 申请日: | 2021-08-23 |
公开(公告)号: | CN113417010B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 韩颖超;赵佑晨;余正飞;李长苏 | 申请(专利权)人: | 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司 |
主分类号: | C30B33/02 | 分类号: | C30B33/02;C30B33/10;C07C51/60;C07C53/50;C07C45/45;C07C45/46;C07C49/80;C07C17/35;C07C22/04;C07C303/32;C07C309/39;C07C213/04;C07C215/08;C07C |
代理公司: | 杭州信与义专利代理有限公司 33450 | 代理人: | 马育妙 |
地址: | 310053 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多晶 材料 洁净 退火 方法 | ||
1.一种多晶硅棒材料的高洁净度退火方法,其特征在于:具体包括如下步骤:
步骤S1多晶硅棒脱脂清洗:将脱脂粉溶于沸水中加入多晶硅棒,煮沸脱脂;
步骤S2多晶硅棒纯水一次浸泡:将清洗后的多晶硅棒浸泡纯水中,进行一次溢流浸泡;
步骤S3多晶硅棒混酸刻蚀:将溢流浸泡后的多晶硅棒放入混酸腐蚀液中,进行刻蚀;
步骤S4多晶硅棒纯水二次浸泡:将清洗后的多晶硅棒浸泡纯水中,进行二次溢流浸泡;
步骤S5多晶硅棒氮气吹干:将浸泡后的多晶硅棒在1000级以上的洁净室中,用氮气吹干;
步骤S6退火炉清洗:将吹干后的硅棒放入立式退火炉中,通入纯化氮气置换炉内的空气,加入二氯乙烯对炉管和硅棒表面进行清洗,继续通入纯化氮气置换掉清洗气体二氯乙烯;
步骤S7多晶硅棒退火:升温至温度为1200℃,保温3-5h后,降温至室温,制得多晶硅棒材料;
所述的脱脂粉由如下步骤制成:
步骤A1:将12-溴十二烷酸进行加热至熔融,搅拌并滴加氯化亚砜,回流反应,制得中间体1,将中间体1、氯化铝、苯加入反应釜中,回流反应,制得中间体2;
反应过程如下:
步骤A2:将中间体2、氢氧化钾、一缩二乙二醇加入反应釜中,搅拌并加入水合肼,回流反应,制得中间体3,将中间体3和浓硫酸加入反应釜中,进行反应后,降温并加入去离子水静置分层,去除下层水层,向有机相中加入氢氧化钠溶液,调节pH值为7,制得中间体4;
反应过程如下:
步骤A3:将12-溴-1-十二烷醇、二甲胺、N,N-二甲基甲酰胺、碳酸钾加入反应釜中,进行反应后,升温反应,制得中间体5,将中间体5、乙二酸、硫酸铜、四氢呋喃加入反应釜中,回流反应,制得中间体6;
反应过程如下:
步骤A4:将明胶溶于去离子水中,加入中间体6和1-羟基苯并三唑,进行反应后,加入中间体4和碳酸钾,继续反应后,加入氯乙酸钠,回流反应后,调节pH值为7,蒸馏去除去离子水,制得脱脂粉;
反应过程如下:
。
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅棒材料的高洁净度退火方法,其特征在于:步骤A1所述的12-溴十二烷酸和氯化亚砜的用量摩尔比为1:2,中间体1、氯化铝、苯的用量摩尔比为1:1:5。
3.根据权利要求1所述的一种多晶硅棒材料的高洁净度退火方法,其特征在于:步骤A2所述的中间体2、氢氧化钾、一缩二乙二醇、水合肼的用量比0.15mol:0.6mol:112.5mL:30mL,氢氧化钠的质量分数为10%。
4.根据权利要求1所述的一种多晶硅棒材料的高洁净度退火方法,其特征在于:步骤A3所述的12-溴-1-十二烷醇、二甲胺、N,N-二甲基甲酰胺、碳酸钾的用量比0.01mol:0.02mol:0.15mol:40mL,中间体5、乙二酸、硫酸铜、四氢呋喃的用量比为0.01mol:0.015mol:0.02mol:50mL。
5.根据权利要求1所述的一种多晶硅棒材料的高洁净度退火方法,其特征在于:步骤A4所述的明胶、中间体6、1-羟基苯并三唑、中间体4、碳酸钾、氯乙酸钠的用量质量比为5:0.8:1:1.5:1.8:0.4。
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