[发明专利]一种制备高密度锡掺杂氧化铟坯体的工艺

权利要求书

1.一种制备高密度锡掺杂氧化铟坯体的工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1，将甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)和溶剂甲苯按照等体积的比例混合，并加入分散剂聚碳酸酯，配成得到预混液；

步骤S2，称取气化ITO粉体；

步骤S3，将气化ITO粉体加入预混液中，并且将与气化ITO粉体等质量的球磨球一起加入预混液中，充分混合后球磨，制得浆料；

步骤S4，向浆料中加入引发剂过氧化苯甲酰(BPO)和催化剂N,N-二甲基乙酰胺(DMA)，搅拌均匀后迅速注模，把模具置于水浴锅中，有机单体发生凝胶化反应，生成三维网状结构，将气化ITO粉体包裹其中，形成由高分子网络定型的坯体；

步骤S5，经过脱模干燥，得到无变形无开裂的表面质量较好的坯体；

步骤S6，将上述坯体在烧结，制得ITO靶材。

2.根据权利要求1所述的制备高密度锡掺杂氧化铟坯体的工艺，其特征在于，所述气化ITO粉体在预混液中的固相含量为90％。

3.根据权利要求2所述的制备高密度锡掺杂氧化铟坯体的工艺，其特征在于，所述坯体在温度1530℃和欠氧环境的马弗炉中进行烧结，制得ITO靶材。

4.根据权利要求3所述的制备高密度锡掺杂氧化铟坯体的工艺，其特征在于，所述气化ITO粉体平均粒径为50nm、其按重量份的配比是氧化铟:氧化锡＝90:10。