[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质

说明书

本发明为在基片的正面的周缘和侧面形成涂敷膜的基片处理装置、基片处理方法和存储介质。在基片的包含正面的周缘和侧面在内的周缘部形成涂敷膜的基片处理装置，包括：基片保持部，其构成为能够以基片可旋转的方式保持基片；第1药液供给部，其构成为能够对包含基片的背面在内的基片的周缘供给第1药液；部分除去部，其将供给到基片上的第1药液中的、附着于基片的正面和侧面的至少一部分的第1药液除去；第2药液供给部，其构成为能够对基片的正面和侧面供给用于形成涂敷膜的第2药液；第1药液除去部，其将保留在附着了第2药液的基片上的第1药液除去；和控制基片保持部、第1药液供给部、部分除去部、第2药液供给部和第1药液除去部的控制部。

技术领域

本发明涉及基片处理装置、基片处理方法和存储介质。

背景技术

在专利文献1中，公开了在基片的周缘部涂敷涂敷液而形成环状的涂敷膜的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-62436号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明提供能够在基片的正面的周缘和侧面形成涂敷膜的技术。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的一方式的基片处理装置是在基片的包含正面的周缘和侧面在内的周缘部形成涂敷膜的基片处理装置，包括：基片保持部，其构成为能够以上述基片可旋转的方式保持上述基片；第1药液供给部，其构成为能够对包含上述基片的背面在内的上述基片的周缘供给第1药液；部分除去部，其将供给到上述基片上的上述第1药液中的、附着于上述基片的正面和侧面的上述第1药液的至少一部分除去；第2药液供给部，其构成为能够对上述基片的正面和侧面第2药液；第1药液除去部，其将保留在附着了上述第2药液的上述基片上的上述第1药液除去；以及控制部，其控制上述基片保持部、上述第1药液供给部、上述部分除去部、第2药液供给部和上述第1药液除去部。

发明效果

依照本发明，提供能够在基片的正面的周缘和侧面形成涂敷膜的技术。

附图说明

图1是表示基片处理系统的一例的立体图。

图2是概要地表示基片处理系统的内部的一例的侧视图。

图3是表示涂敷单元的一例的示意图。

图4是表示控制装置的硬件结构的一例的框图。

图5是表示在工件形成的涂敷膜的形状的一例的示意图。

图6是表示基片处理方法的一例的流程图。

图7的(a)～图7的(f)是用于说明基片处理方法的一例的示意图。

图8的(a)～图8的(f)是用于说明基片处理方法的变形例的示意图。

图9的(a)和图9的(b)是用于说明基片处理方法的变形例的示意图。

附图标记说明

1……基片处理系统

2……涂敷显影装置

11～14……处理模块

21……旋转卡盘

22……旋转驱动部

31……第1处理液供给部

32……第2处理液供给部

33……第3处理液供给部

34……第4处理液供给部