[发明专利]气溶胶产生组件和气溶胶产生系统

权利要求书

1.一种气溶胶产生组件，其特征在于，包括：

气溶胶生成基质段，包括第一包装层和气溶胶生成基质，所述第一包装层形成中空的第一圆柱体，所述气溶胶生成基质收容于所述第一圆柱体内；

识别件，固定于所述气溶胶生成基质段，所述识别件由透波材料制成；

所述识别件包括介电陶瓷材料，所述介电陶瓷材料包括以下一种或组合：氧化铝、钛酸钡、钛酸镁、钛酸钙、钛酸锶、氧化镁、氧化锆、氮化硼、氮化铝、稀土混晶系陶瓷。

2.根据权利要求1所述的气溶胶产生组件，其特征在于，还包括：

过滤段，包括第二包装层和过滤物，所述第二包装层形成中空的第二圆柱体，所述过滤物收容于所述第二圆柱体内。

3.根据权利要求1所述的气溶胶产生组件，其特征在于，

所述识别件位于所述气溶胶生成基质内，或所述识别件位于所述第一包装层和气溶胶生成基质之间。

4.根据权利要求3所述的气溶胶产生组件，其特征在于，

所述识别件的数量为至少两个，至少两个所述识别件包括第一识别件和第二识别件；

所述第一识别件和第二识别件均位于所述气溶胶生成基质内；或

所述第一识别件位于所述气溶胶生成基质内，所述第二识别件位于所述第一包装层和气溶胶生成基质之间；或

所述第一识别件位于所述第一包装层和气溶胶生成基质之间，所述第二识别件均位于所述气溶胶生成基质内。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的气溶胶产生组件，其特征在于，

所述识别件的介电常数的取值范围为10至100；和/或

所述识别件的介电损耗的取值范围为0至0.1。

6.一种气溶胶产生系统，其特征在于，包括：

气溶胶产生装置，所述气溶胶产生装置包括雾化腔和微波组件，所述微波组件用于向所述雾化腔内馈入微波；

如上述权利要求1至5中任一项所述的气溶胶产生组件，气溶胶产生组件的至少部分位于所述雾化腔内。

7.根据权利要求6所述的气溶胶产生系统，其特征在于，所述雾化腔包括：

强场区，所述气溶胶产生组件中的所述识别件位于所述雾化腔的所述强场区，所述强场区为所述微波组件向所述雾化腔内馈入微波以形成的微波的强场区。

8.根据权利要求6所述的气溶胶产生系统，其特征在于，所述气溶胶产生装置包括：

壳体，所述雾化腔设置于所述壳体内；

谐振柱，所述谐振柱的第一端与所述雾化腔的腔底壁相连，所述谐振柱的第二端与所述气溶胶产生组件相对设置。

9.根据权利要求8所述的气溶胶产生系统，其特征在于，所述微波组件包括：

微波导入部，设置于所述壳体的侧壁；

微波发射源，与所述微波导入部相连，所述微波发射源输出的微波经过所述微波导入部馈入所述雾化腔，使所述微波沿所述谐振柱的第一端至所述谐振柱的第二端的方向传导。