[发明专利]一种彩虹镜片及其制备方法

权利要求书

1.一种彩虹镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、将基片清洗干净后烘干，得到洁净基片；

S2、定义基片在使用状态下位于上侧的方向为上，远离人眼的一侧为外，则，将洁净基片摆放在治具上，对所述洁净基片的外表面的下侧通过治具进行遮挡，使得所述洁净基片的外表面的上侧暴露出来，作为成膜面，成膜面占所述洁净基片外表面总面积的比例为x，40％≤x≤70％，之后将治具送入真空镀膜腔室中并抽真空，进行镀膜，在基片外表面的上方生成薄膜；

S3、取出S2镀好膜的基片，将所述镀好膜的基片摆放在治具上，对所述镀好膜的基片的外表面的上侧通过治具进行遮挡，使得所述镀好膜的基片的外表面的下侧暴露出来，作为成膜面，成膜面占所述洁净基片外表面总面积的比例为y，40％≤y≤70％，之后将治具送入真空镀膜腔室中并抽真空，进行镀膜，在基片外表面的下方生成薄膜；同时110％≤(x+y)≤140％，步骤S2和步骤S3中镀膜重叠处形成非等厚度的递变薄膜层，从而形成彩虹颜色。

2.根据权利要求1所述彩虹镜片的制备方法，其特征在于：步骤S2中，将治具送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3.5*10^-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到2.0*10^-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在采用电子枪依次轰击若干薄膜材料，以在基片外表面上方生成纳米薄膜；

任选的，步骤S3中，将治具送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3.5*10^-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到2.0*10^-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在采用电子枪依次轰击若干薄膜材料，以在基片外表面下方生成纳米薄膜。

3.根据权利要求1所述彩虹镜片的制备方法，其特征在于：S2的成膜面占所述洁净基片外表面总面积的比例x，55％≤x≤65％；S3的成膜面占所述洁净基片外表面总面积的比例y，55％≤y≤65％，115％≤(x+y)≤125％。

4.运用权利要求1-3任一项所述彩虹镜片的制备方法，制备得到的彩虹镜片。

5.一种彩虹镜片，其特征在于：所述彩虹镜片包括基片，定义基片在使用状态下位于上侧的方向为上，远离人眼的一侧为外，则所述基片外表面设置纳米薄膜，由上薄膜、中薄膜和下薄膜组成，上薄膜、中薄膜和下薄膜占所述基片外表面总面积的比例分别为m，n，p，其中，上薄膜和下薄膜皆为等厚度多层薄膜，中薄膜为非等厚多层薄膜，所述中薄膜由于光的折射形成彩虹颜色，并且，35％≤m≤45％，10％≤n≤30％，35％≤p≤45％，m+n+p＝1。

6.根据权利要求5所述彩虹镜片，其特征在于：所述上薄膜与所述下薄膜的厚度相同，所述中薄膜为内凹形，所述中薄膜的上侧和下侧分别与所述上薄膜和所述下薄膜平滑过渡，所述上薄膜与所述下薄膜以所述中薄膜的中点呈对称。

7.根据权利要求6所述彩虹镜片，其特征在于：所述上薄膜和所述下薄膜皆为A、B两种材料交替层叠形成3-9层薄膜，A材料作为奇数层材料，为SiO₂、真空镀膜材料L5中的任意一种，B材料为偶数层材料，为氧化钛和氧化铌的混合物，其中氧化钛的含量为55-85wt％，氧化铌的含量为15-45wt％。

8.根据权利要求7所述彩虹镜片，其特征在于：所述上薄膜和/或所述下薄膜为蓝色纳米薄膜，包括A、B两种材料交替层叠形成的5层薄膜，第一、三、五层的薄膜厚度为500-1700埃，第二、四层的薄膜厚度为200-600埃。

9.根据权利要求7所述彩虹镜片，其特征在于：所述上薄膜和/或所述下薄膜为绿色纳米薄膜，包括A、B两种材料交替层叠形成的5层薄膜，第一、三、五层的薄膜厚度为100-1100埃；第二、四层的薄膜厚度为1500-2000埃。

10.根据权利要求7所述彩虹镜片，其特征在于：所述上薄膜和/或所述下薄膜为红色纳米薄膜，包括A、B两种材料交替层叠形成的7层薄膜，第一、三、五、七层的薄膜厚度为400-1700埃；第二、四、六层的薄膜厚度为600-1100埃。